원형의 단면을 가지며, 렌즈를 통과하는 빔이 회전대상에 집속되지 않고, 기판면 위에 타원형이 되는 수차. 이 수차는 비점보정장치(스티그미터)를 이용하여 보정하는 것이 가능하다.
반/디 용어집노광․묘화장치마스크제조공정
휘도 - brightness
단위시간에 단위면적, 단위입체각(solid angle)내에서 방사되는 전자의 양[단위:A/㎡sr]
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샷 분할 - shot partition
성형빔(정사각형 빔)방식의 전자빔 묘화장치에 있어서, 묘화되는 패턴을 실제 조사(照射)하는 빔에 대응하는 크기 혹은 형상으로 분할하는 것.
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샷타임변조 - shot time modulation
근접 효과 보정 수단의 하나로, 도형의 치수 정밀도를 향상시키기 위해 도형 치수에 맞춰, 샷 하는 노광시간을 변화시키는 것
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산란 효과 - scattering effect
전자빔을 묘화할 때, 전자빔이 산란되고 확산되는 것에 의한 효과인데, 레지스트에 입사한 전자가 레지스트를 구성하는 원자와 충돌하여 진행방향으로 산란이 확산되면서, 진입해 가는 전방산란과, 레지스트를 관통한 후에 기판을 구성하는 원자와 충돌하여 진행방향과 반대 방향으로 산란하는 후방산란효과가 있다. 이것들은 공통적으로 가속전압, 레지스트막의 두께 등에 의존한다.
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묘화인크리먼트 - adress increment
레지스트 사이즈와 동의어
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센트럴리티 - centralty
기판 중심과 다이 배열의 중심과의 부정합. 오프센터(off-center)라고도 부른다.
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빔 정렬 - beam alignment
전자 또는 레이저광학계의 각 구성요소의 광축을 합성하는 것. 각 요소를 기계적으로 위치 조정하는 방법과 편향기를 설계하여 빔의 위치를 조정하는 방법이 있다.
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성형편향계 - beam shaping system
전자빔을 원하는 모양으로 성형하기 위한 렌즈, 성형 개구, 편향기 등이 유기적으로 결합된 계.
