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매엽식묘화 - single wafer processing

기판을 한 개씩 순서대로 묘화하는 것.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
다중노광방식 - multiple exposure

노광장치에 있어서, 편향제어된 빔에 의해 묘화된 패턴은 편향 수차(收差)에 의해 치수 정밀도, 위치 정밀도 등이 영향을 받는다. 이것들의 정밀도를 향상시키기 위해, 빔의 편향 위치(스캔 위치)를 조금 바꿔 중복되게 노광하는 방식. 개개의 노광장치에 의해, 필드 시프트 노광, 4패스 노광, OSV 등으로 나눈다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
라스터스캔 - raster scan

빔을 일정 폭에 일정 방향으로 주사(走査)하여, 패턴 데이터에 대응하는 빔을 온-오프시키는 것에 의해 패턴을 형성하는 묘화 방식

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
리사이즈 사이징 - resize sizing

원래 도형의 중심 위치에 변화를 주지 않고, 선폭을 굵게, 또는 가늘게 하는 것.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
대물개구 - objective aperture

대물렌즈 내에 위치하면서 집속반각(集束半角)을 결정하기 위한 개구

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
렌즈디스토션 - lens distortion

투영광학계에서 가능한 상의 화면 왜곡 수차, 대표적인 것으로써 사권(絲卷)형과 준(樽)형이 있다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
데이터포맷 변환 - data format conversation

CAD 등으로 작성된 패턴 데이터를 장치 고유의 데이터 형식으로 변환시키는 것.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
극성 - polarity

포토마스크의 흑백부분의 관계를 말한다. 그림 (a)와 (c), 그리고(b)와 (d)는 서로 반대의 극성관계가 있다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
검출기 - detector

물리량과 물질의 유무 등을 검출하고, 전기량이나 전기신호로 변화시키는 것. 전자빔 묘화장치에는 일차전자, 이차전자, 반사전자 등의 전류량, 전자빔의 형상측정용 등으로 이용되고 있다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정

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