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가우시안빔 스폿 빔 - Gaussian beam

한다발로 묶인 빔이 광축에 대해 축대칭이고, 이것의 전류밀도분포가 가우스 분포를 하고 있는 빔

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
근접효과보정 - proximity effect correction

근접효과에 의한 도형의 왜곡을 보정하는 것으로, 다음의 두가지 종류가 있다. (1)도형내 근접효과보정 : 도형 모서리부에 축적된 전하량이 부족한 것을 보충하기 위한 것으로써, 도형을 세분하여, 모서리부의 전자빔의 조사량을 증가시키는 방법이 있다. (2)도형간 근접효과보정 : 도형과 도형 사이에서 발생하는 근접효과를 보정하기 위한 것으로써, 조사량(照射量)을 조절하는 방법과, 도형 치수의 증가가 예측되는 부분을 미리 작게 하는 방법이 있다.

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로우 - row

기판 위에 배열된 다이의 수평방향의 배열

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다이나믹 포커스 - dynamic focusing

편향기로 전자빔을 편향할 때, 편향량이 증대되면서 초점의 위치가 광축에 수직인 평면에서 이탈하게 된다. 이런 부정합을 보정하기 위해, 편향신호의 크기에 따라 포커스를 보정하는 것.

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노광묘화장치 - pattern exposure system

가시광선과 적외선 또는 전자빔을 이용해, 마스크 블랭크 위에 원화패턴을 묘화하는 장치인데, 패턴 제너레이터․콘택트 프린터․포토리미터․전자빔 묘화장치․레이저 묘화장치 등이 있다.

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가변성형 빔 - variable shaped beam

한다발로 묶인 빔의 단면을 정사각형으로 가공하여, 이것의 가공치수를 샷(shot)마다 변화시킬 수 있는 빔.

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공정바이어스 - process bias

선폭의 재현성이 최적화된 노광, 공정조건하에서 패턴 데이터 위의 선폭과, 마스크 위에 형성된 패턴의 선폭이 통계적으로 차이가 나는 것.

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데이터 바이어스 - data bias

포토마스크 위에 패턴 선폭의 균일성고 패턴 모양의 최적화를 목적으로, 원하는 선폭에 대하여, 패턴 위의 선폭에 미리 일정한 오차를 설계하여 넣는 것.

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데이터압축 - data compaction data compression

일정용량의 기억매체 속에 많은 패턴 데이터를 저장하는 것. 그리고 데이터의 전송속도를 향상시키는 것을 목적으로 하는 패턴 데이터의 압축기술

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