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전자(電磁) 렌즈 - eletro - magnetic lens

자계의 작용에 의해 전자빔을 집속, 결상(結像)하는 렌즈. 일반적으로, 축대칭의 링(ring)모양의 코일과 둔철(鈍鐵) 등의 자성재료인 요크로 구성되어 있다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
콘택트프린터 - contact printer

마스터 마스크와 마스크 블랭크를 진공 밀착시켜, 마스터 마스크의 패턴을 마스크 블랭크에 1:1로 전사하는 노광장치

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
플라즈마 디스컴장치 - plasma descum system

산소를 포함한 가스를 넣은 반응실 내에 고조파 전력을 인가하여 화학적인 활성 플라즈마를 발생시켜, 이것에 의해 패터닝된 레지스트 상(像)의 스컴을 제거하는 장치.

반/디 용어집 마스크제조공정 패턴형성장치
편향제어계 - deflection control system

편향기에 관계하는 일련의 빔 위치제어계. 빔주사와 빔위치 설정을 위해 파라메터 전송수단․제어회로․편향기 드라이버 등의 하드웨어 및 이것들을 총괄 제어하는 소프트웨어로 이루어져 있다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
플래쉬 - flash

광학식 패턴 제너레이터의 가변식 대형 개구(aperture)를 통하여 광원이 발생시키는 섬광. 도형의 규모를 추측하는 것을 목적으로, 원하는 패턴을 묘화하는 경우의 플래쉬 수를 이용한다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
대물렌즈 - objective lens

전자 혹은 레이저 빔을 기판위에 집속, 결상하기 위한 최종 단계의 렌즈

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
데이터변환 오차 - data conversion error

원래의 패턴 데이터를 묘화장치 고유의 데이터 포맷으로 변환시킬 때, 치수가 바뀌어 소수점 이하를 버리거나, 올릴 때 발생하는 오차

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
도형치수정밀도 - pattern accuracy

CAD 데이터와 레지스트 또는 식각패턴 데이터와의 치수의 차이

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
레이저 묘화장치 - laser lithography system

마스크 또는 웨이퍼 위에 레이저광․라스터 스캔방식을 이용하여 패턴을 묘화하는 장치.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정

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