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패턴형성장치 - pattern lithography system

마스크 블랭크 위에, 원화 패턴을 형성하기 위해, 노광묘화, 현상, 베이킹, 식각, 레지스트 제거, 세정 등을 행하는 장치의 총칭

반/디 용어집 마스크제조공정 패턴형성장치
키마크범위 - keymark zone

마스크 패턴을 웨이퍼에 전사(轉寫)할 때 사용하는 정렬 마스크를 구성하기 위한 마스크 위의 영역

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
장시간묘화위치정밀도 - closure long term die to die error

묘화를 시작할 때부터 종료할 때까지 발생하는 패턴의 상대적인 위치 부정합의 정밀도. 일반적으로 묘화를 시작하고 종료할 때에 각각을 비교하여 패턴을 묘화하는 방법이 이용되고 있다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
셀 - cell

(1)칩 패턴을 형성하는 패턴 데이터의 단위의 명칭으로써, 메모리 패턴 등에 동일한 패턴이 반복하여 배열되어 있는 경우에 반복되는 기본 단위의 패턴. (2)라스터 스캔방식의 전자빔 묘화장치의 라스터 주사(走査)폭과 같거나, 혹은 주사폭을 자연수(自然數)로 나눈 값과 같은 폭을 가지는 띠 모양의 작은 영역을, 편의상 띠의 긴 쪽 방향으로 일정한 단위의 구역으로 나눌 수 있는 대형 영역. 프레임은 이런 대형 영역을 긴 쪽 방향으로 틈새 없이 병렬로 배치한 것의 집합이다. 묘화장치가 가지고 있는 도형 데이터의 기억 또는 화소의 발생을 처리하는 처리용양의 단위와 동일하다.

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프레임 스트라이프 - frame stripe

(1)라스터 스캔방식의 묘화장치에 라스터 주사폭과 같거나, 주사폭을 자연수로 나눈 값과 같은 폭을 가지는 띠 모양의 작은 영역. 칩은 이런 띠 모양의 작은 영역을 폭의 방향으로 틈새 없이 병렬로 배치한 것의 집합이다. 또, 이런 폭을 프레임폭이라 부른다. (2)레티클로 차광(遮光)하는 범위

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잡 데이터 잡 데크 - job data job deck

다이(칩)의 배열, 묘화 모드. 도즈(dose)량 등의 노광조건, ID문자, 묘화 순서 등 묘화하기 위한 작업지시 데이터.

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필드파티션 - field partition

벡터 스캔방식의 전자빔 묘화장치에 있어서, 패턴 데이터를 필드 사이즈로 분할하는 것

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컬럼 - column

기판 위에 배열된 다이의 수직방향의 배열

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진공큐어링 - vacuum curing

전자빔 묘화 후의 네거티브 레지스터의 후중합(後重合)효과를 균일하게 하기 위해, 장치 안을 진공으로 유지시키고 그속에 묘화한 기판을 나두는 것.

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