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조간이송 시간 - bath - to - bth transport time

습식세정장치의 수조에서 다음의 수조까지 세정대상물을 운반하는 데 필요한 시간.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 습식세정장치
CMP후세정 - cleaning after CMP

CMP(chemical mechanical polishing)에 의해 발생하는 연마 가루를 연마용 돌가루 슬러리(slurry)와 함께 제거하기 위한 세정. 브러시스크럽세정, 메가헤크쯔 대역의 초음파스프레이, 약액에 의한 스핀세정 등이 이용되고 있다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 습식세정장치
풀업 건조장치 - capillary drying equipment pull up drying equipment

60。C 내외 온도의 초순수 속에 웨이퍼를 1㎜/s 정도의 일정속도로 수직으로 끌어올려 건조하는 장치. 웨이퍼와 치구(jig)와의 접촉부의 물방울을 제거하는 기술이 중요하다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 세정
잔류오존 처리장치 - ozone gas processor ozone removal equipment

광화학 세정장치의 자외선 조사로 발생하는 유해한 오존가 장치 밖으로 배출되지 않게 하고, 무해화(無害化) 처리를 하는 장치.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 습식세정장치
잔류입자수 - number of unremov - able particle

세정처리 후, 웨이퍼 표면 위에 잔류한 입자의 수.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 습식세정장치
크래들 - cradle

원심건조장치의 회전부(rotor turntable)에 복잡한 카세트를 수납하기 위해 달려있는 수납부. 웨이퍼를 반입할 때는 삽입구가 수직방향으로 열려있고, 운전할 때는 웨이퍼 면이 수평으로 되도록 90도 회전한다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 세정
IPA증기건조 - IPA vapor drying

이소프로필아르곤(IPA)의 가열 증기 중에 웨이퍼를 넣어, 응축IPA로 부착된 순수를 치환하면서, 웨이퍼를 증기온도까지 상승시켜 건조하는 방식. 오염 없이 건조할 수 있으며, 웨이퍼의 정전기제거 효과도 있다. 사용 IPA의 수분관리와 가열성에 대한 안전대책이 중요하다. 한편 불연성혼합용매 파플로로카본/트리플로로에탄올을 IPA에 대용하는 방법도 실용화되고 있다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 세정
초음파발진기정격출력 - rated output power of ultrasonic generator

세정조에 설치된 진동자 등에 부하를 연결한 경우, 발생시킬 수 있는 초음파진동기의 최대고주파출력.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 습식세정장치
캐리오버 - carry over

약액 침적세정에 있어서, 웨이퍼와 카세트에 부착된 약액이 다음의 약액조까지 넘어가는 것. 전달된 PRA제의 카세트에 흡수된 약품이, 다른 수조로 삼투압에 의해 통과하고, 보관용기 중에서 증발한다. 약액과 보관웨이퍼의 오염의 원인이 된다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 습식세정장치

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