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레티클로더 레티클 체인저 - reticle loader reticle changer

레티클 여러 장을 보관하고 있으며, 노광위치에서 왕복이동하는 기구. 보관하는 것이 마스크일 경우, 마스크로더, 마스크체인저라고 한다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
렌즈투영 노광장치 - lens projection aligner

투영광학계가 굴절계로 구성되어 있는 노광장치. 투영광학계에 축소광학계를 채용한 것을 레이저축소 투영노광장치, 또 투영광학계에 등배(等倍)의 투영광학계를 채용한 것을 렌즈등배 투영노광장치라고 한다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
광노광장치 - optical aligner

포토레지스트에 감도가 있는 가시광선에서 자외선까지의 광선으로 노광하는 장치. 광원으로써 초고압 수은등(g선 :436nm, h선 :405nm, i선 :365nm), 엑시머 레이저(XeCl :308nm, KrF :248nm, ArF :193nm 등)가 이용되고 있다. 일반적으로 파장이 짧은 쪽이 해상도가 높다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
나노메트릭 리소그래피 - nanometric lithography

선폭이 나노메터(nm)영역의 패턴을 리소그래피한 것.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
릴레이렌즈 - relay lens

챔버내로 빛을 보내기전 균일한 조명과 레티클에 형상을 좋게 하기 위해 설치한다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
런아웃 - run out

두 대의 정렬마크를 이용하여 정렬할 경우, 마스크와 웨이퍼의 배율오차 때문에, 한 대를 정렬할 때, 다른 한 대에서 정렬오차가 발생하는 것. 또는 이 정렬오차.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
다층 레지스트법 - multilayer resist method

여러 종류의 레지스트를 다층으로 도포․형성함으로써, 레지스트표면을 평탄화하고, 레지스트층의 안이나 기판표면에서의 빛 또는 전자선의 반사․산란효과를 감소시켜, 해상도를 향상시키는 방법.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
간섭필터 간섭렌즈 - interference lens

g선, i선 등 노광에 필요한 파장의 빛을 추출하는 렌즈

반/디 용어집 interference lens 웨이퍼처리공정
마스킹 블레이드 레티클 블라인드 - masking blade reticle blind

레티클패턴의 노광범위 바깥을 덮는 차광막.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광

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간섭필터 간섭렌즈 - interference lens

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