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펄스레이저 노광 - pulse laser exposure method

KrF의 엑시머레이저로 대표되는 간헐(間歇)광선의 레이저광원을 사용하는 노광. 고압수은 등의 i선, g선 등의 연속발광 광선을 사용하는 노광방법과 구별하는 용어

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
조도 불균일성 - illumination uniformity

화면사이즈 내에 있어서 방사조도의 불균일성.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
콘덴서렌즈 - condensor lens

챔버내로 들어온 빛이 레티클에 상을 맺도록 집광시켜주는 렌즈

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
SR 노광장치 SOR 노광장치 - synchrotron radiation aligner

SR(싱크로트론 방사광)으로 노광하는 노광장치.

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프로젝션 얼라이너 - projection aligner

주사식 미러투영노광장치의 총칭.

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전자빔셀 마스크 - electron beam cell mask

셀투영방식의 전자빔리소그래피로 사용되는 마스크. 전자빔을 형성하므로써, 메모리 LSI셀 등, 반복성이 높은 패턴의 일부를 식각하여 형성시키고, 이것에 전자빔을 반복하여 웨이퍼를 노광한다. 메모리셀 등을 투영하기 때문에 셀투영방식이라고도 부른다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
TTL 정렬 - through - the - lens alignment

투영광학계를 매개로 웨이퍼 위에 정렬 마스크를 계측하면서 정렬하는 것. 투영광학계의 오차를 제거할 수 있다는 이점이 있다.

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투영광학계 - projection optical system

레티클과 마스크위의 패턴을, 등배 또는 축소시켜, 웨이퍼 위에 투영하기 위한 광학계.

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전자빔 노광장치 - electron beam exposure system

전자빔으로 노광하는 노광장치. 빔의 스캔방식으로, 라스터스캔식 전자빔노광장치와 벡터스캔식 전자빔노광장치로 분류된다. 웨이퍼에 직접 전자빔으로 묘화하는 장치를 전자빔직접묘화장치라고 부르는 것도 있다.

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

프란틀 수 - Prandtl number

탄성계수 - elastic modulus

공칭 응력 - nominal stress

유동박리 - flow separation

CFL수 - Courant - Friedrichs...

펄스레이저 노광 - pulse laser exposure method

조도 불균일성 - illumination uniformity

콘덴서렌즈 - condensor lens

SR 노광장치 SOR 노광장치 - synchrotron radiation aligner

프로젝션 얼라이너 - projection aligner

전자빔셀 마스크 - electron beam cell mask

TTL 정렬 - through - the - lens alignment

투영광학계 - projection optical system

전자빔 노광장치 - electron beam exposure system

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