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베이스라인 - base line

오프액시스정렬(off-axis alignment)스코프에 의해 규정된 정렬용 기판. 또는 이 기판에 의한 정렬위치와 노광위치와의 거리.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
선폭정밀도 - line width accuracy

선 패턴을 웨이퍼 위에 노광 전사 후, 현상하여 얻어지는 레지스트 위의 선폭의 정밀도.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
미러투영 노광장치 - mirror projection aligner

투영광학계에 미러(mirror)를 장착한 노광장치.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
믹스앤드매치 - mix - and - match M&M

한 개의 반도체디바이스의 여러 노광공정에 대해, 각 공정에 맞는 노광장치로 구별하여 사용하는 것.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
해상도 분해선폭 분해능 - resolution

기판 위의 폭, 간격이 동일한 선폭레지스트 패턴을 형성할 때의 실용적인 최소선폭인데, 밑의 수식으로 구할수 있다. C1127 : 계수 : 파장 : 개구수 이 0.5일 경우를 한계해상도로 취급하지만, 일반적으로은 양산(量産)라인에서 0.7, 연구레벨에서 0.6을 이용하고 있다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
AGA EGA - advanced global alignment enhanced global alignment

글로벌 정렬의 일종. 다점(多点)위치정보에 의한 통계적 추정 산출를 기초로 하여, 웨이퍼 스테이지를 노광위치로 이동하는 정렬방식.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
스텝 피치 - step pitch

스텝식 투영노광장치에 있어서 노광할 때마다 이동하는 양.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
상면조도 - illumination intensity at image plane

노광장치의 결상위치에 있어서 조명강도.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
플래틴 - platen

교환하기 위해 반송되어 온 레티클을 지지(支持)하고, 광학계의 정해진 위치에 세팅하는 지지기구.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

프란틀 수 - Prandtl number

탄성계수 - elastic modulus

공칭 응력 - nominal stress

유동박리 - flow separation

CFL수 - Courant - Friedrichs...

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미러투영 노광장치 - mirror projection aligner

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AGA EGA - advanced global alignment enhanced global alignment

스텝 피치 - step pitch

상면조도 - illumination intensity at image plane

플래틴 - platen

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