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입력렌즈 - input lens

셔터에서 나온 빛을 평행한 빛으로 바꾸어 간섭필터 또는 다른 렌즈로 전달해주는 렌즈.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
이온빔 리소그래피 - ion beam lithography

광원으로 이온빔을 사용하는 노광장치. 광폭(broad)의 빔과 마스크를 이용한 일괄이온빔 리소그래피와 집속이온빔을 이용한 직접묘화법이 있다. 전자선에 비하여 질량이 크고, 축적에너지 밀도를 크게 할 수 있다는 등의 이점이 있다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
웨이퍼회전 오차 - wafer rotation error

노광할 때에 웨이퍼가 회전하면서 발생하는 정렬의 회전방향 오차.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
웨이퍼 스테이지 - wafer stage

웨이퍼를 노광위치로 이동시켜 위치를 결정하는 기구로써, XY평면내의 이동과 위치를 결정하는 XY스테퍼와, Z방향의 위치결정(focusing), Z축 주변의 회전위치결정(웨이퍼 θ) 및 X축과 Y축 주면의 회전위치결정(tilting)을 행하는 미동스테이지의 양스테이지를 포함하는 기구.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
스텝식 투영노광 장치 스테퍼 - stepping projection aligner stepper

마스크 패턴(레티클 패턴)의 투영상에 대하여 웨이퍼를 반복 스테핑(stepping)하여 노광하는 투영노광장치. 스텝식 투영노광장치의 총칭을 스테퍼라 한다. 사용하는 노광광원에 의해, g선 스테퍼, ⅰ선 스테퍼, 엑시머레이저 스테퍼로 구별하여 부르는 경우도 있다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
셔터 - shutter

필요한 빛을 차단․통과시키는 장치

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
스텝식 X선 노광장치 - stepping X - ray aligner

웨이퍼를 반복 스테핑하여 노광하는 X선 노광장치.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
벽면각 어깨각 테이퍼각 - wall angle shoulder angle taper angle

레티클(마스크)패턴을 웨이퍼 위에 노광 전사(轉寫) 후, 현상하여 얻어지는 레지스트 패턴의 단면 모양에 있어서, 측면의 경사각도.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
블라인드 - blind

레티클패턴 영역을 벗어나는 부분의 빛을 차단하기 위해 설치

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

프란틀 수 - Prandtl number

탄성계수 - elastic modulus

공칭 응력 - nominal stress

유동박리 - flow separation

CFL수 - Courant - Friedrichs...

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셔터 - shutter

스텝식 X선 노광장치 - stepping X - ray aligner

벽면각 어깨각 테이퍼각 - wall angle shoulder angle taper angle

블라인드 - blind

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