브러시 스크러버, 고압분사세정, 분류식 식각장치 등에 있어서, 세정처리하는 컵 모양의 용기
반/디 용어집웨이퍼처리공정습식세정장치
초순수용 대전방지구 - antistatic charge equipment for ultrapure water
초순수가 대전되어 웨이퍼면 위에 입자가 부착되면, 회로가 파괴되기 때문에 초순수중에 이산화탄소 등을 주입하여, 저항률을 1MΩ․㎝ 전후로 낮추는 장치. 초순수는 비저항이 높아, 움직임이나 마찰에 의해 대전된다. 다이싱 공정 등 초순수가 분무되어 사용되는 공정에 이용되고 있다.
반/디 용어집설비․환경공정물
증기건조장치 - vapor drying equipment
물을 기화잠열이 작은 유기용매와 치환한 후, 유기용매의 증기로 가열하여 건조하는 장치.
반/디 용어집웨이퍼처리공정세정
조립자 - grain grit
입자크기가 #8～#220까지인 입자.
반/디 용어집기계가공웨이퍼제공정
허브리스 블레이드 링블레이드 - hubless blade ring blade
절단칼만으로 되어 있으며, 부착지지부가 없는 초박절단숫돌. 20～30㎛의 두께가 일반적이다. 부착지지부가 없기 때문에, 부착할 때에 파손되지 않도록 주의할 필요가 있다.
반/디 용어집조립공정다이싱
HF 증기 세정장치 - HF vapor cleaning equipment
불화수소산 또는 불화수소와 알콜의 혼합액에서 발생된 증기로 Si 웨이퍼 표면에 자연산화막 등을 제거하는 장치. 특히 막성장공정의 전처리(前處理)에 이용된다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정건식세정장치
현상후선폭 - ADI CD
현상후 레지스트의 선폭으로 After Development Inspection CD의 약자
반/디 용어집기본․공통마스크제조공정
플래싱 - flashing
전자총의 이미터표면에 흡착된 가스분자를 정기적으로, 짧은 시간 안에 고온가열하여 표면을 깨끗하게 하는 것.
반/디 용어집검사장치마스크제조공정
OSF - oxidation induced stacking fault
실리콘을 산화하여 표면 혹은 내부에 발생하는 적층결함. 이것의 요인으로써는 결정표면을 연마하는 사이에 생기는 기계적손상, HF에 의한 표면오염, 중금속의 오염을 포함하는 표면결함 같은 외인적 요인 및 열처리에 의해 발생하는 점결함의 응집과, 결정 grown-in 결함인 스월(swirl)결함 또는 산소석출 등의 내인적 요인이 있다.
