입사광의 초점과 반사광의 초점이 모두 무한히 먼 곳에 위치하는 광학계로써, 모두 주광선은 물체공간 및 상공간에도 광축에 평행하게 되어, 물체면과 상면 사이에 생기는 오차와 배율오차가 주는 영향을 작게하는 렌즈계.
반/디 용어집웨이퍼처리공정노광
열산화장치 - thermal oxidation furnace
가열한 반응관 안의 웨이퍼에 산소 또는 물분자를 공급한 후, 고온에서 열산화반응을 일으켜, 웨이퍼에 산화막을 형성시키는 장치.
반/디 용어집산화장치웨이퍼처리공정
인덱스타임 - index time
프로버 또는 핸들러로 연속처리할 때, 한 개의 다이 또는 디바이스의 테스트가 종료한 후, 다음 다이 또는 디바이스의 위치를 정하여 테스트를 다시 시작할 수 있을 때까지의 시간.
반/디 용어집기본․공통사공정
웨이퍼프로버 프로버 - wafer prober
반도체 웨이퍼 위에 형성된 IC, LSI 등의 전자회로 칩의 전기적 특성을 효율적으로 시험하기 위하여, 각 칩의 전극에 접촉침을 자동적으로 접촉시켜, 접촉침에 접속된 외부의 테스터에 의한 각 칩의 전기적 시험을 가능하게 하는 것과 함께, 테스터가 불량으로 판정된 칩을 식별 가능하게 하는 장치.
반/디 용어집사공정핸들링
오작동방지밸브제어시스템 - error operation free valve control system
반도체제조시스템에서 발생하는 다양한 전자노이즈에 의해 발생하는, 가스공급시스템에 이용되는 자동밸브 등의 오작동을 방지하는 시스템. 각각의 밸브 등의 부품을 개별적으로 코드화하여, 제어계에서 발신된 코드와 일치하는 경우에만 동작되도록 하는 장치.
반/디 용어집수질분석기기설비․환경공정
일차연마 거친연마 - stock removal polishing
고속 폴리싱할 때, 고압․고속으로 절단된 웨이퍼를 평탄화 연마하는 공정.
반/디 용어집웨이퍼제공정폴리싱장치-성능․정밀도
이방성식각 - anisotropic etching
깊이 방향의 식각속도가 수평방향보다 큰 경우로써, 식각속도가 방향의존성을 갖는 것. 이방성이 클 경우, 깊이(수직)방향의 식각만 일어난다. 미세패턴 가공, 콘택, 측벽스페이서를 만드는데 이용된다.
반/디 용어집건식식각장치웨이퍼처리공정
외관검사장치 - visual inspection system
마스크의 패턴 결함과, 패턴의 모양, 유리표면의 흠, 오염, 얼룩 등을 레이저광과 투과광을 이용하여 자동적으로 검사하는 장치.
반/디 용어집검사장치마스크제조공정
온도변화 프로필 - temperature up and down profile
웨이퍼 등을 열처리할 때의 온도변화와 처리시각과의 관계를 표시하는 패턴. 열처리의 재현성 향상, 웨이퍼의 휨, 왜곡의 발생을 막기 위해 온도변화패턴을 프로그램제어하는 경우가 있다.