스테이지의 위치를 결정하기 위한 일련의 제어계. 스테이지의 위치․속도․방향 등의 파라메터 설정 및 전송수단․제어회로․구동부 등의 하드웨어 및 이것들을 총괄 제어하는 소프트웨어로 이루어져 있다.
반/디 용어집노광․묘화장치마스크제조공정
스컴 - scum
현상후, 웨이퍼 개구부에 남아있는 잔재, 웨이퍼 위에 단독으로 남아있는 것과 레지스트 밑부분에 부수적으로 남아있는 것이 있다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정레지스트 처리
여기 - excitation
레이저활성물질을 방전 또는 플래시와 같은 빛에 의해 활성화하는 것.
반/디 용어집조립공정마킹
보트 로더 - boat loader
반응관에 보트를 자동으로 넣고 꺼내는 기기. 속도와 정지위치의 재현성에 대한 정밀도를 제어한다. 푸셔(pusher)막대를 반응관 안에 넣고 꺼내서 보트를 삽입하고, 빼내기도 한다.
반/디 용어집산화장치웨이퍼처리공정
바우 - bow
흡착고정되지 않은 상태에서 활 모양으로 굽은 웨이퍼의 중심점과 지정된 기준면에서 웨이퍼 중심면과의 거리.
반/디 용어집검사웨이퍼제공정
멀티챔버 시스템 - multi - chamber system
배선공정, 박막형성 공정 등에 있어서, 개개의 다른 공정을 적당히 조합하여, 같은 분위기(雰圍氣)에서 동시에 처리하여, 공정의 총체적인 기능을 향상시킬 목적으로 여러개의 챔버를 하나로 합친 진공장치. 반송실을 중심으로 주위에 공정실을 배치하는 방사상 타입(type)과, 중앙의 반송실과 그 양쪽에 공정실을 배치한 선형 타입이 있다.
반/디 용어집기본․공통웨이퍼처리공정
밀폐순환식냉각수설비 - closed circuit condensing (cooling) water systerm
냉각탑 또는 열교환기에 의해 냉각된 냉각수를 송수펌프로 반도체제조장치 등의 피냉각대상물로 보내고, 냉각후에도 대기로 개방되지 않는 귀환송수방식의 냉각수설비. 피냉각대상물에 배압(背壓)이 가하여지기 때문에, 내압(耐壓)의 확인이 필요하다.
반/디 용어집초순수장치설비․환경공정
브러싱 - brushing
패키지의 표면에 먼지, 에칭 플래시조각을 제거하는 것. 레이저마킹의 경우, 레이저로 태울 때의 잔류물을 제거하는데 이용되고 있다.
