쵸크랄스키법으로 만들어진 Si 웨이퍼를 적당한 열처리(예를 들면 1050℃, 수십시간, N2분위기)를 시행하면, 웨이퍼표면 근방의 산소는 외부로 확산되어 형성되는, 저산소에서 산소석출 등 완전히 결함이 없는 영역. DZ흥이라고도 한다.
반/디 용어집열처리용어웨이퍼제공정
멀티플렉서 - multiplexer
신호원, 측정계를 릴레이 등으로 피측정디바이스 단위마다 변환하는 회로
반/디 용어집기본․공통사공정
서브필드 - subfield
복수개의 편향기로 구성된 편향계의 경우, 편향 영역이 작은 쪽 영역
반/디 용어집노광․묘화장치마스크제조공정
아웃가스 - outgassing
재료에서의 가스방출. 청정실건축재, 각종제조장치에는 다양한 종류의 재료가 사용되고 있어, 재료에 의해서는 암모니아 등의 무기성가스, DOP 등의 유기성가스를, 장기간에 걸쳐 방출하여, 웨이퍼공정에 악영향을 미치는 것이 있다. 이 때문에 사용재료의 충분한 조치가 필요하다.
반/디 용어집청정실설비․환경공정
에지러프니스 - edge roughness
묘화된 패턴의 에지부의 굴곡 정도. 레지스트, 공정조건, 전자빔의 직경 및 빔의 모양 등에 의해 변한다.
반/디 용어집노광․묘화장치마스크제조공정
백 래크 - back rack
드라이버보드 등을 수납하여, 전기적인 접속을 가능하도록 하는 래크.
반/디 용어집사공정에싱
실린더캐비넷 - cylinder cabinet
반도체제조용가스 중에서, 독성이 강한, 혹은 자연발화성이 높은 위험성가스를 안전하게 취급하기 위해, 고압가스용기를 수납하여 가스를 공급하는 장치. N2에 의한 내부 퍼지, 가슬누출경보기, 배기계 등의 기능을 갖는다.
반/디 용어집설비․환경공정물
번인보드체커 - burn - in board checker
번인보드의 패턴절단, 접합불량, 회로쇼트 등, 설계의도를 만족하는 기능을 갖고 있는가를 체크하는 장치.
