파티클이 발생하는 것을 방지하기 위해, 대기압 상태인 챔버를 진공상태로 바꾸는 공정에서 컨덕턴스를 조여 느린 속도로 공기를 챔버 밖으로 방출하는 것
반/디 용어집기본․공통웨이퍼처리공정
상압CVD 장치 - atmospheric pressure CVD system
반응실 안의 압력이 대기압인 CVD장치. 증착속도가 빠르고, 단차 피복성(step coverage)가 비교적 양호하다.
반/디 용어집CVD 장치웨이퍼처리공정
세정장치 - cleaning equipment
표면에 있는 입자․유기물․금속표면불순물 등의 오염을 액체 또는 기체 세정제의 화학작용과 각종 물리에너지를 이용하여 제거하는 장치.
반/디 용어집웨이퍼처리공정세정
산화 - oxidation system
웨이퍼에 산화막을 형성하는 것. 온도, 분위기, 압력 및 장치의 형식에 의하여 상압열산화장치, 고압열산화장치, 플라즈마양극(陽極)산화장치로 구분된다. 산화막의 두께 조절과 막 속의 금속오염 방지를 위해, 분압 산화염산 첨가산화, TCA(tolichromethan)첨가산화, DCE(dechromethylen)첨가산화 등의 방법을 사용하는 경우도 있다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정산화
배출 박스 - drain box
웨이퍼를 회전시켜 레지스트 도포하고 현상하는데, 웨이퍼에 과잉적으로 적하(滴下)된 도포액은 배출된다. 이 배출액의 도포 또는 현상부의 바로 밑에서 회수하는 용기를 배출박스라 한다. 바로 밑에서 회수하지 않고 ,공장설비 또는 별도의 회수용기(장치외)에 배출되는 자동배출방식(auto drain)도 있다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정도포장치
에어타올 - air towel
HEPA필터를 통과한 청정한 온풍으로 손을 건조시키는 장치.
반/디 용어집청정실설비․환경공정
엔드 스테이션 - end - station
웨이퍼반송계, 로드, 언로드계, 주입실 등의 총칭. 웨이퍼디스크를 기계주사하는 배치처리방식과, 웨이퍼를 핸들링하여 플래틴(platen)으로 지지하고 주입하는 매엽식처리방식이 있다.
반/디 용어집이온 주입장치웨이퍼처리공정
센터링 - centering
웨이퍼의 중심을 스핀척 위에 위치하도록 하는 것. 중심에서 어긋나면 스핀도포기에 의한 레지스트 막두께의 균일성에 영향을 준다.
