반도체의 허용 에너지준위 이외의 반도체 속에 존재하는 불순물 원자부근에 전자 또는 정공이 포착되어 있는 상태에 대응하는 에너지준위. 즉, 각종의 격자결함에 의해 발생하는 같은 에너지준위도 불순물준위라고 부르는 경우도 있다.
반/디 용어집특성용어검사
본딩정밀도 - bonding accuracy
본딩 위치정밀도에 관계된 능력. 보통 패턴인식장치의 위치검출정밀도와 기구부의 위치결정정밀도를 결합한 종합정밀도로 나타낸다.
반/디 용어집조립공정본딩
삽입패턴위치부정합 - shift of inserted pattern
마스크 또는 웨이퍼 위에 다이 배치의 일부분이 정렬표시층(alignment mark) 등의 다른 패턴을 삽입할 때, 패턴의 중심이 다이의 중심과 어긋나는 것 또는, 어긋난 양
반/디 용어집노광․묘화장치마스크제조공정
보온통 - pedestal
열처리 할 때, 열을 외부로 새나가지 않게 않는 모양으로 된 기구. 보통, 수직형 열처리반응로 포트의 하부에 설치된 밑받침과 겸용한다. 재질은 주로 석영과 실리콘카바이드(SiC)를 이용한다.
반/디 용어집Pedestal산화장치
미니플리츠형공기필터 - mini - pleats type air filter
실 또는 실모양의 수지를 분리기(separator)에 사용하여 여과재를 쪼개 넣은 공기필터. 대풍량을 얻기 쉬운 구조이다.
반/디 용어집가스설비․환경공정
베이킹장치 - baking unit oven
웨이퍼를 가열하여 웨이퍼 표면의 수분을 탈수하기 위해, 도포공정, 또는 현상공정의 전후로 웨이퍼 표면에 도포된 레지스트를 가열처리하는 장치.
반/디 용어집베이킹장치웨이퍼처리공정
에너지오염 - energy contaminat - ion
에너지가 원하는 수치보다 낮은 이온의 총칭. 이온과 잔류기체(중성입자)의 충돌에 의한 전하의 교환으로 만들어진 이온과, 분자이온이 분리되어 만들어진 이온이 원하지 않는 에너지로 되어 웨이퍼에 주입되는 것.
반/디 용어집이온 주입장치웨이퍼처리공정
아이리드 - eyelid
청정실내 기류패턴의 조정, 자외선 차단 등을 목적으로, 천장에 매달려 밑으로 늘어선 패널. 파티션패널과 달리, 자유롭게 왕래할 수 있기 때문에 작업성 면에서 우수하다. 단지 미립자차단의 측면에서는 파티션패널과 커텐보다 열등하다. 청정실이 클 경우, 청정도영역구분에 이용된다.
