수중에 용해되어 있는 분자모양의 산소. 초순수제조장치에는 진공탈기탑, 질소가스탈기장치에 의해 제거되고, 재용해를 방지하기 위해, 순수탱크에는 N2가스를 주입하고 있다. 농도의 측정은, 윙클러법, 격막전극법 등이 있으며, 간편한 검지관비색법도 있다. 단위는 ㎍/l로 표시한다.
ULPA 필터 등으로 구성된 한쪽벽 전면에서 공기가 내실로 유입되고, 마주보는 다른 쪽 벽의 전면으로 흘러 나가도록 된 공간에, 수평으로 일방향류가 흐르는 형식의 청정실. 하류로 갈수록 청정도가 떨어진다.
반/디 용어집가스설비․환경공정
스핀도포기 - spin coater
수평으로 된 웨이퍼 위에 레지스트를 한 방울씩 떨어뜨리고 웨이퍼를 회전시켜서, 웨이퍼 위에 균일한 레지스트막을 형성시키는 장치. 레지스트공급계, 스핀모터, 컵을 조합하여 구성된다. 회전수는 수천 rpm(1분에 수천 번 회전)까지 가능하다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정도포장치
액체봉지쵸크랄스키법 가압쵸크랄스키법 - liquid encapsulat - ion Czochralski method high pressure Czochralski method
봉지제(B2O3, NaCl 등)를 결정소재와 함께 도가니에 충전하고, 결정성장 분위기(ambient)에 불활성, 가스를 도입시켜 넣고 압력을 가하여, 화합물반도체 등의 용융점에서의 높은 증기압(해리압)을 갖는 반도체물질이 증발해 날라가는 것을 막으면서 결정을 끌어올리는 방법.
반/디 용어집웨이퍼제공정단결정제조
애프터코로젼 - after - corrosion
식각할 때에 웨이퍼에 부착된 염소(Cl2)와 반응생성물이 대기 중의 수분과 반응하여, 이것에 의해 식각 후에 Al배선 등이 부식되는 현상.
반/디 용어집건식식각장치웨이퍼처리공정
비율이동 - ratio
인상법에 의해 결정성장을 실시할 때 결정성장에 따라 도가니 가운데의 용융액면이 낮아지는데, 이것을 보정하기 위하여 인상속도를 기준으로 할 때의 도가니 축 전송속도.
반/디 용어집웨이퍼제공정단결정제조
순화여과식 세정조 - bath with filter for circulating solution
