노광을 위한 제어계. 패턴데이터의 전송수단․기억수단․데이터변환수단(실시간)․묘화패턴의 발생수단 등의 하드웨어 및 이것들을 총괄 제어하는 소프트웨어로 이루어져 있다.
반/디 용어집노광․묘화장치노광제어계
다결정 폴리크리스탈 - polycrystal
결정구조 주기가 부분적으로만 유지된 결정. 작은 결정의 집합체. 결정성장에 사용하는 소재.
반/디 용어집결정성장다결정 폴리크리스탈
대역용융법 - zone melting method
존레벨링(zone leveling), 존 정제 등으로, 평형에 가까운 상태를 유지하는 재료의 일부만을 용해시킨 존(zone, 대역)으로 하고, 이것을 이용하여 정제하면서 단결정을 만드는 방법. 존 멜팅(zone melting)법이라고도 한다. 현재는 많은 화합물반도체결정의 제작에 사용되고 있다.
반/디 용어집웨이퍼제공정단결정제조
고전압리소그래피 - high voltage lithography
비교적 에너지가 높은 전자빔(보통, 50KV 이하)을 이용하여 패턴을 묘화하는 것. 레지스트 내에서의 전자빔의 산란효과를 감소시키기 위한 해상도가 높은 레지스트 상을 형성할 수 있다.
반/디 용어집노광․묘화장치마스크제조공정
더미사이클 - dummy cycle
IC의 기능검사에 있어서, 피측정디바이스의 측정에 직접적으로는 의미가 없는 테스트사이클.
반/디 용어집기본․공통사공정
공정복합화 - process integration
공정개발에 대한 투자억제를 고려한 결과, 반도체제조장치내에 일정한 조건과 환경에서 몇 개의 공정을 연결하고 처리를 반복해, 같은 웨이퍼 위에서 여러 공정을 하는 것으로 생산효율을 높이는 기술. 예를들어, in-situ에서 식각과 스퍼터링 등의 일련의 처리를 시행하면서 회수하는 멀티챔버장치 등이 권장되고 있다.
반/디 용어집기본․공통웨이퍼처리공정
동축마그네트론스퍼터링장치 - coaxial magntron sputtering system
음극와 양극이 동축(同軸)원통 모양의 구조를 갖는 마그네트론 스퍼터링장치. 중심에 있는 원통 모양의 타겟 내부에는 원통 모양의 자석이 여러 개 들어가 있으며, 타겟표면과 평행한 자계가 발생하여 마그네트론 방전을 유지한다. 음극과 양극의 배치가 역전된 역동축(逆同軸)마크네트론 방식도 있다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정박막형성장치
다크조건 - dark condition
촬상소자에서 수광부로 빛을 조사하는 것이 완전히 차단된 상태에서 암전류(暗電流)와 흰 얼룩 등의 측정을 실시하기 위한 조건.
반/디 용어집사공정이미지센서 검사장치
로터리 척 - rotary chuck
위상시프트마스크를 제작할 때에 필요한 첫 번째 층의 노광과 두 번째 층의 노광의 회전방향의 부정합을 교정하는 기능을 가진 척