애싱처리실에 고농도의 오존을 도입하여, 오존과 레지스트를 화학반응시켜, 애싱하는 장치로 오존으로 분해된 산소원자와 레지스트가 반응하므로 하전입자의 영향이 없고, 무결함(demage free)공정이 가능하다. 보통, 질소나 질소화합물을 촉매로 첨가하여, 애싱속도를 높인다.
반/디 용어집애싱장치웨이퍼처리공정
입상활성탄 - granular activated carbon
야자수찌꺼기와 석탄을 원료로 하여, 0.5～1.0㎜정도의 입자상으로 된 활성탄. 골격이 다공질 미세구조이기 때문에 표면적이 크고, 흡착재로써는 뛰어난 성능을 갖는다. 또, 산화성물질을 환원하는 능력도 있다.
반/디 용어집사공정신뢰성 검사
예열기 프리히터 - pre - heater
피측정디바이스를 고온테스트할 때, 피측정디바이스가 테스트사이트에 도달하기 전에 로터, 스토커 등으로 미리 피측정디바이스를 가열하기 위한 장치.
반/디 용어집사공정핸들링
열이력 (熱履歷) - thermal budget
공정 중에 웨이퍼가 받는 총열량. 받는 열의 온도와 열을 받은 시간과 관계가 있다.
반/디 용어집기본․공통웨이퍼처리공정
이온주입 장치 - ion plating system
웨이퍼를 음극측에 설치하고, 글로우(glow)방전을 일으켜, 증발원에서의 증발원자를 이온화 또는 여기(與氣)시켜, 가속하고, 기판에 충돌시켜 퇴적하게 하는 진공증착장치. 이온플레이팅은 밀착성이 강한 피막을 얻을 수 있고, 부착력이 좋으며, 막질이 좋은 화합물피막을 얻을 수 있는 등의 특징이 있다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정진공증착장치
옵셋제어 - offset control
정렬, 초점조정(focus) 등의 옵셋 조절.
반/디 용어집웨이퍼처리공정노광
오리엔테이션플랫 - orientation flat
결정방위와 전도형의 판별 및 위치 정하기를 용이하게 하기 위해 잉곳 및 웨이퍼의 둘레에 어느 한 곳을 직선으로 한 면. 주(主)오리엔테이션 플랫과 부(副)오리엔테이션 플랫이 있다.
