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플래시메모리 E/W사이클시험장치 - flash memory E/W cycle test system

플래시메모리의 erase/write 사이클의 수명을 시험하는 장치. 여러 개의 플래시메모리를 동시에 평가할 수 있다는 특징이 있다.

반/디 용어집 사공정 에싱
MOMBE 성장장치 가스소스 분자선 에피택셜 성장장치 CBE장치 - metal organic molecular beam epitaxial growth system chemical beam epitaxial system

유기금속CVD장치(MOCVD)와 분자선 에피택셜성장장치(MBE) 각각의 약점을 보완하여 만들어진 장치. 박막성장용 재료로서 가스소스를 이용하기 때문에 MBE의 우수한 결정 제어성을 더해지고, MOCVD의 특징을 갖추고 있어 선택성장이 가능하다.

반/디 용어집 에피택셜 성장장치 웨이퍼처리공정
휠 커버 휠 덮개 - wheel guard

휠차의 덮개

반/디 용어집 기계가공 웨이퍼제공정
잼 비율 - jamming rate

외형 및 입출력핀 또는 단자형상이 완전한 규격인 정해진 수량의 피측정디바이스를 핸들러로 연속처리할 때, 반송불량이 된 피측정디바이스 수의 비율.

반/디 용어집 사공정 핸들링
청정챔버 - clean draft chamber

HEPA 필터장치와 배기덕트를 갖고, 청정한 분위기에서 약품처리를 하는 곳.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 습식세정장치
테스트 스테이션 - test station

IC테스트시스템으로 디바이스를 측정할 때, 피측정디바이스를 장착한 부분. 일반적으로 테스트헤드부와 매니퓰레이터로 구성되어 있다. 네트워크를 구성하는 각각의 IC테스트시스템을 가리키는 경우도 있다.

반/디 용어집 기본․공통 사공정
전자빔 - eletron beam

전자선(캐소드)을 가열하거나, 전계를 인가하여 발생하는 전자를 가속시켜, 한다발로 묶은 것. 전계 또는 자계에 의해 축소, 확대, 편향 또는 주사 등의 제어가 용이하여, LSI 패턴의 묘화 외에, 미세한 패턴의 수치단위 검사와 디바이스의 특성 검사용 EB 테스터 등의 분야에 이용된다. 단면형상과 노광방식에 따라, 스폿빔, 가변성형빔, 일괄노광빔 등으로 나뉜다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
캐리어가스 - carrier gas

반도체제조에 사용되는 특수재료가스의 농도를 조절하는데 이용되는 가스, 특수재료가스가 기체의 경우 희석용으로써, 액체 또는 고체의 경우 기화․혼합용으로 사용된다. H2, N2, Ar, He등이 있다.

반/디 용어집 설비․환경공정 물
풀사이트 - full site

사이트 전영역이 FQA 안에 있는 사이트.

반/디 용어집 검사 웨이퍼제공정

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

프란틀 수 - Prandtl number

탄성계수 - elastic modulus

공칭 응력 - nominal stress

유동박리 - flow separation

CFL수 - Courant - Friedrichs...

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전자빔 - eletron beam

캐리어가스 - carrier gas

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