침적린스조의 윗 방향 먼저 순수를 공급하면, 수조의 밑 부분에 설치된 다공판을 통과하고 같은 유량으로 펌프배수되어 수조 내에 균일한 유속분포의 하강흐름(downflow)이 형성되고, 이 흐르는 순수로 린스한다. 좁은 웨이퍼 간극으로 물이 잘 흐르므로, 수조 안으로 순수의 흐름이 멈추지 않고, 효율이 양호한 린스를 할 수 있다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정습식세정장치
전해이온수 - electroytic ionized water electrolysis ionized water
순수(純水) 또는 미량의 전해질을 용해시킨 물을 전해하면, 양극(anode)실에서는 산성에서 강산화성 물, 음극(cathode)실에서는 알칼리성에서 강환원성의 물을 얻을 수 있다. 전해 양극수(陽極水)는 Si 표면오염금속의 제거에, 전해 음극수는 부착미세입자의 제거에 효과가 있다.
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회전수설정 시간 - revolution speed setup time
원심건조장치에 있어서 설정된 회전속도까지 도달하는 데 걸리는 시간.
반/디 용어집웨이퍼처리공정세정
건식세정장치 - dry cleaning equipment
액체를 사용하지 않고 표면의 오염을 제거하는 장치.
반/디 용어집웨이퍼처리공정건식세정장치
마랑고니 건조 - marangoni drying
린스조에서 웨이퍼를 적당한 속도로 끌어올리면서 IPA 증기를 포함하는 질소가스를 불어넣어 실온에서 건조하는 방법. 끌어올려지는 웨이퍼가 수면과 일치할 때에 만들어지는 메니스커스(meniscus, 기체액체경계면과 웨이퍼면과의 교차부에 만들어지는 만곡면부분)의 물에 IPA이 용해되면서 표면장력이 떨어져, 웨이퍼가 물에 적셔지지 않게 되는 마랑고니효과를 이용한다. IPA소비량이 적고, 워터마크가 생기지 않는 특징이 있다.
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계면활성제 첨가 세정약품 - surfactant added cleaning chemical
웨이퍼 세정처리를 할 때, 흡수성의 향상과 웨이퍼 표면의 미소굴곡(micro-roughness) 증대를 억제할 목적으로 계면활성제를 첨가한 세정용 약액. 범퍼(완충)불산(불산에 불화 암모늄을 혼합한 SiO2 식각액. BHF라고 줄여서 부른다.), 암모니아수, 콜린수용액이 사용된다.
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공기봉입식 세정챔버 - air seal type clean draft chamber
청정공기의 다운플로우(downflow)와 외부에의 배기의 풍량에 균형을 맞춘 기기세정에 있어서, 흐름의 상부에 작은 풍량을 갖는 청정공기의 수평층 흐름을 형성하여 약품 증기를 빠르게 배출하도록 한 것. 다운플로우의 풍량을 보통의 1/3정도로 낮추어도 청정도가 유지되기 때문에, 배기풍량을 대폭 줄일 수 있고, 청정실의 에너지를 줄이는 것에도 역할을 한다.
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매엽식 세정장치 - single wafer processing cleaner
웨이퍼를 한 장씩 세정처리하는 방법의 장치이고, 배치식에 대응하여 매엽식이라고 한다. 세정방법에는 스프레이 등의 습식처리식과 기상세정처리식이 있다. 300㎜ 이상의 대구경 웨이퍼의 세정에 적당하다.
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로봇식 자동반송기 - robotic transporter
마이크로프로세서로 제어되며, 세정물을 부착한 채로 세정장치 안을 자유롭게 이동하는 반송기.