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공정바이어스 - process bias

선폭의 재현성이 최적화된 노광, 공정조건하에서 패턴 데이터 위의 선폭과, 마스크 위에 형성된 패턴의 선폭이 통계적으로 차이가 나는 것.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
도메인

어떤 목적을 가지고 분할된 논리적 영역. 인터넷에서는 관리운영의 주체마다 도메인을 나눈다. cf. domain: "영토, 분야, 변역"

통신 용어집 도메인
막식폐수처리장치 - waste water treatment equipment with membrane filter

폐수의 고액분리를 RO, UF, MF막 등의 막을 사용하여 실시하는 폐수처리장치. 미세입자 및 RO의 경우는 염류의 제거도 가능하고, 침전, 여과 등의 장치에 비해 설치면적이 대폭 줄어든다.

반/디 용어집 초순수장치 설비․환경공정
리버스모션 - reverse motion

제1 본드 후에 제2 본드는 역방향으로 축을 이동시켜 와이어에 변곡점을 만들어, 와이어루프 모양을 제어하는 동작.

반/디 용어집 조립공정 본딩
데이터 바이어스 - data bias

포토마스크 위에 패턴 선폭의 균일성고 패턴 모양의 최적화를 목적으로, 원하는 선폭에 대하여, 패턴 위의 선폭에 미리 일정한 오차를 설계하여 넣는 것.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
레지스트감도 - sensitivity of resist

레지스트에 패턴을 형성하기 위해 필요한 가시광선․자외선․X선․전자선 등을 비춰주는 양(조사량)

반/디 용어집 기본․공통 마스크제조공정
마킹정밀도 - marking accuracy

레이저마커에 의해 마킹된 문자의 치수정밀도를 나타내는 용어. 문자자체의 치수정밀도(높이․폭․깊이․선폭)와 패키지에 대한 마킹위치정밀도, 혹은 반복마킹될 때의 재현성정밀도가 있다.

반/디 용어집 조립공정 마킹
광노광장치 - optical aligner

포토레지스트에 감도가 있는 가시광선에서 자외선까지의 광선으로 노광하는 장치. 광원으로써 초고압 수은등(g선 :436nm, h선 :405nm, i선 :365nm), 엑시머 레이저(XeCl :308nm, KrF :248nm, ArF :193nm 등)가 이용되고 있다. 일반적으로 파장이 짧은 쪽이 해상도가 높다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
건조펌프 (드라이펌프) - dry vacuum pump

터보 분자펌프와 저온펌프(cryopump)의 초벌 진공펌프로 이용되며, 가스통로에 기름이 혼합되지 않는 오일프리펌프(oil-free pump). 보통 대기압에서 10-3pa까지 압력을 낮출 수 있다.

반/디 용어집 기본․공통 웨이퍼처리공정

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