동일 웨이퍼 위에, 동일 선폭으로 밀도(스페이스)가 다른 레지스트 패턴을 형성할 때, 스페이스의 간격에 의해, 선폭이 변동하는 현상.
반/디 용어집웨이퍼처리공정레지스트 처리
동적패턴추적기 패턴추적기 패턴시뮬레이터 - dynamic pattern tracer
알고리즘 패턴발생기에 의해 발생된 어드레스, 입력/기대값패턴 등의 데이터를 추적(trace) 및 디버그하는 유틸리티.
반/디 용어집사공정디버그
레이저 도핑장치 - laser doping system
웨이퍼에 자외선 영역의 파장을 가진 레이저를 쏘아, 광화학반응으로 불순물가스(dopant gas)를 분해하는 동시에 레이저를 쏜 부분을 국부적으로 용해시켜, 이 부분에 불순물을 도핑하는 장치. 이온주입법과 달리, 결함생성이 억제되며, 활성화하기 위한 열처리(anneal)가 필요 없다. 레이저로써 단파장의 엑시머레이저가 주로 사용되고 있다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정도핑
댐 블럭 - dam block
외측 리드의 사이 등에 수지가 흘러가는 것과 절단, 성형 공정에서의 마이크로크랙을 방지하기 위하여 설계된 리드프레임판의 두께부분의 금형돌기.
반/디 용어집패키지조립공정
리소그래피 - lithography
평판 인쇄에 의한 석판술을 어원으로 하고 있으며, 반도체분야에는 기판 위에 레지스트 패턴을 형성하는 기술.
반/디 용어집웨이퍼처리공정노광
단면휨 - ingot cutting face bow
절단기로 절단된 잉곳의 단면의 힘.
반/디 용어집기계가공웨이퍼제공정
가우시안빔 스폿 빔 - Gaussian beam
한다발로 묶인 빔이 광축에 대해 축대칭이고, 이것의 전류밀도분포가 가우스 분포를 하고 있는 빔