빛․열 등의 에너지를 흡수하여, 에너지가 높은 상태로 여기시켜, 화학반응을 일으키기 쉬운 상태로 되어 있는 원자와 분자. 식각 가스에 고주파와 마이크로파를 인가하면 플라즈마 중에 발생하고 이것들이 막과 반응하여 식각이 진행된다. 라디칼, 유리기(遊離基) 등으로도 불리운다.
반/디 용어집건식식각장치웨이퍼처리공정
조립분진용공기필터 - coarse particle air filter
주로 5㎛보다 큰 입자를 제거하는 데 이용되는 공기필터. 일반적으로 공기흐름에 대하여 첫 번째 상류에 설치되는 프리필터로써 이용되며, 세정하여 재사용가능한 종류도 있다.
반/디 용어집가스설비․환경공정
I/O천이시간 - I/O switching transition
드라이버, 비교기의 두 기능을 구비한 핀일렉트로닉스에 있어서, 드라이버 모드와 비교기 모드로 혹은 반대로 바뀔 때, 걸리는 시간.
반/디 용어집기본․공통사공정
콜리메잇 스퍼터링 - collimate sputtering
단차부의 가로세로비(aspect比)가 큰 콘택홀에 막을 성장시킬 때, 밑바닥까지 충분히 박막이 형성되도록, 타겟과 웨이퍼 사이에 격자모양의 판을 삽입하여 강제적으로 수직성분을 높이는 스퍼터링.
반/디 용어집웨이퍼처리공정박막형성장치
I'인터페이스
ISDN과 유저 단말기 사이의 국제표준인 I 인터페이스에 PHP 공중서비스용 위치등록 정보 등을 부가한 것.
통신 용어집
플래시메모리 E/W사이클시험장치 - flash memory E/W cycle test system
플래시메모리의 erase/write 사이클의 수명을 시험하는 장치. 여러 개의 플래시메모리를 동시에 평가할 수 있다는 특징이 있다.
반/디 용어집사공정에싱
MOMBE 성장장치 가스소스 분자선 에피택셜 성장장치 CBE장치 - metal organic molecular beam epitaxial growth system chemical beam epitaxial system
유기금속CVD장치(MOCVD)와 분자선 에피택셜성장장치(MBE) 각각의 약점을 보완하여 만들어진 장치. 박막성장용 재료로서 가스소스를 이용하기 때문에 MBE의 우수한 결정 제어성을 더해지고, MOCVD의 특징을 갖추고 있어 선택성장이 가능하다.