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세정장치 - cleaning equipment

표면에 있는 입자․유기물․금속표면불순물 등의 오염을 액체 또는 기체 세정제의 화학작용과 각종 물리에너지를 이용하여 제거하는 장치.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 세정
양자화 - Quantising (Quantisation)

원래의 아날로그 신호를 표현하는 디지털형태의 정보를 제공하기 위해 아날로그 파형을 표본화하는 과정.

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산화 - oxidation system

웨이퍼에 산화막을 형성하는 것. 온도, 분위기, 압력 및 장치의 형식에 의하여 상압열산화장치, 고압열산화장치, 플라즈마양극(陽極)산화장치로 구분된다. 산화막의 두께 조절과 막 속의 금속오염 방지를 위해, 분압 산화염산 첨가산화, TCA(tolichromethan)첨가산화, DCE(dechromethylen)첨가산화 등의 방법을 사용하는 경우도 있다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 산화
배출 박스 - drain box

웨이퍼를 회전시켜 레지스트 도포하고 현상하는데, 웨이퍼에 과잉적으로 적하(滴下)된 도포액은 배출된다. 이 배출액의 도포 또는 현상부의 바로 밑에서 회수하는 용기를 배출박스라 한다. 바로 밑에서 회수하지 않고 ,공장설비 또는 별도의 회수용기(장치외)에 배출되는 자동배출방식(auto drain)도 있다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 도포장치
순단

회선이 순간적으로 절단되는 현상. 교환기의 고장이나 보전작업시 장치교환 등에서 발생한다.

통신 용어집
배리어 세그먼트

메일 서버, DNS 서버, WWW 서버 등 인터넷에서 직접 접속해 운용하는 기기를 수용하는 세그먼트. 사내 LAN과는 게이트웨이나 라우터로 접속한다.

통신 용어집 배리어 세그먼트
에어타올 - air towel

HEPA필터를 통과한 청정한 온풍으로 손을 건조시키는 장치.

반/디 용어집 청정실 설비․환경공정
엔드 스테이션 - end - station

웨이퍼반송계, 로드, 언로드계, 주입실 등의 총칭. 웨이퍼디스크를 기계주사하는 배치처리방식과, 웨이퍼를 핸들링하여 플래틴(platen)으로 지지하고 주입하는 매엽식처리방식이 있다.

반/디 용어집 이온 주입장치 웨이퍼처리공정
센터링 - centering

웨이퍼의 중심을 스핀척 위에 위치하도록 하는 것. 중심에서 어긋나면 스핀도포기에 의한 레지스트 막두께의 균일성에 영향을 준다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 도포장치

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