잔류오존 처리장치 - ozone gas processor ozone removal equipment
광화학 세정장치의 자외선 조사로 발생하는 유해한 오존가 장치 밖으로 배출되지 않게 하고, 무해화(無害化) 처리를 하는 장치.
반/디 용어집웨이퍼처리공정습식세정장치
잔류입자수 - number of unremov - able particle
세정처리 후, 웨이퍼 표면 위에 잔류한 입자의 수.
반/디 용어집웨이퍼처리공정습식세정장치
초음파발진기정격출력 - rated output power of ultrasonic generator
세정조에 설치된 진동자 등에 부하를 연결한 경우, 발생시킬 수 있는 초음파진동기의 최대고주파출력.
반/디 용어집웨이퍼처리공정습식세정장치
캐리오버 - carry over
약액 침적세정에 있어서, 웨이퍼와 카세트에 부착된 약액이 다음의 약액조까지 넘어가는 것. 전달된 PRA제의 카세트에 흡수된 약품이, 다른 수조로 삼투압에 의해 통과하고, 보관용기 중에서 증발한다. 약액과 보관웨이퍼의 오염의 원인이 된다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정습식세정장치
평행 다운플로우 린스 - parallel downflow rinse
침적린스조의 윗 방향 먼저 순수를 공급하면, 수조의 밑 부분에 설치된 다공판을 통과하고 같은 유량으로 펌프배수되어 수조 내에 균일한 유속분포의 하강흐름(downflow)이 형성되고, 이 흐르는 순수로 린스한다. 좁은 웨이퍼 간극으로 물이 잘 흐르므로, 수조 안으로 순수의 흐름이 멈추지 않고, 효율이 양호한 린스를 할 수 있다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정습식세정장치
전해이온수 - electroytic ionized water electrolysis ionized water
순수(純水) 또는 미량의 전해질을 용해시킨 물을 전해하면, 양극(anode)실에서는 산성에서 강산화성 물, 음극(cathode)실에서는 알칼리성에서 강환원성의 물을 얻을 수 있다. 전해 양극수(陽極水)는 Si 표면오염금속의 제거에, 전해 음극수는 부착미세입자의 제거에 효과가 있다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정습식세정장치
계면활성제 첨가 세정약품 - surfactant added cleaning chemical
웨이퍼 세정처리를 할 때, 흡수성의 향상과 웨이퍼 표면의 미소굴곡(micro-roughness) 증대를 억제할 목적으로 계면활성제를 첨가한 세정용 약액. 범퍼(완충)불산(불산에 불화 암모늄을 혼합한 SiO2 식각액. BHF라고 줄여서 부른다.), 암모니아수, 콜린수용액이 사용된다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정습식세정장치
공기봉입식 세정챔버 - air seal type clean draft chamber
청정공기의 다운플로우(downflow)와 외부에의 배기의 풍량에 균형을 맞춘 기기세정에 있어서, 흐름의 상부에 작은 풍량을 갖는 청정공기의 수평층 흐름을 형성하여 약품 증기를 빠르게 배출하도록 한 것. 다운플로우의 풍량을 보통의 1/3정도로 낮추어도 청정도가 유지되기 때문에, 배기풍량을 대폭 줄일 수 있고, 청정실의 에너지를 줄이는 것에도 역할을 한다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정습식세정장치
매엽식 세정장치 - single wafer processing cleaner
웨이퍼를 한 장씩 세정처리하는 방법의 장치이고, 배치식에 대응하여 매엽식이라고 한다. 세정방법에는 스프레이 등의 습식처리식과 기상세정처리식이 있다. 300㎜ 이상의 대구경 웨이퍼의 세정에 적당하다.
