약용액․유기용매․물 등 액체를 사용하여 세정하는 장치. 유해한 약품과 용매의 증기가 발생하는 세정장치에는, 실내의 증기가 확산되지 않게 배기구(outlet)가 붙어있다. 또 약액에 대응하는 내산성 플라스틱, 유기용매에 대응하는 스테인리스강(stainless 鋼)이 몸통의 재료로 사용된다. 장치전용의 팬필터장치를 천장에 갖춘 팬필터형과 없는 오픈형으로 크게 구분된다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정습식세정장치
브러시 스크러버 브러시 세정기 - brush scrubber
회전하는 브러시에 세정액을 부으면서, 세정면을 누루면서 이동시켜, 표면부착물을 모조리 세정하는 장치. 브러시의 모양에는 원통형과 컵형이 있고, 브러시의 재료에는 식물성 털과 스폰지가 있다. 레지스트 도포 전에 먼지를 제거하는 데 사용되는 것 외에, 최근에는 웨이퍼 뒷면의 오염을 제거하는 것에 사용되고 있다. 한 면만 처리하는 장치와 양면을 동시에 처리하는 장치가 있다.
0.5% 불소산에 1～10%의 과산화수소를 혼합한 세정액으로, 영어의 첫 글자(initial)을 따서 FPM액이라고도 한다. 불소산만으로 세정하면 구리오염이 생기지만, FPM액은 구리오염이 없고 실온(室溫)에서 침적처리하면서 웨이퍼의 산화막과 금속오염이 제거된다. 세정면에 자연산화막도 형성되지 않는다.
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표면청정도 - surface cleanliness
표면에 존재하는 미량의 오염물의 측정값. 표면의 깨끗한 정도를 나타낸다. 예를들면 입자오염은 1㎠당 소정의 입자보다 직경이 작은 입자의 부착물 수, 표면금속불순물은 1㎠당 불순물 원자수, 유기분자오염은 1㎠당 중량과 표면피복성 등으로 표시한다.
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불소산첨가 순수 - HF added pure water
5～10ppm의 불소산을 첨가한 순수. 불소산 산화막제거처리한 후 웨이퍼린스를 사용하면, 단순하게 순수만 사용한 것과는 달리 린스 할 때와 공기 중에 보관할 때, 자연산화막 성장을 현저하게 억제할 수 있다. 또 불산의 살균력에 의해 순수(純水)시스템에서의 박테리아 발생을 방지할 수 있다.
