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칸티레버 - cantilever

웨이퍼가 설치된 보트를 견고하게 고정시키고, 반응관에 접속되지 않게 삽입한 상태에서 각종 반응을 일으키고, 반응완료 후 보트를 반응로 바깥으로 꺼내는 장치.

반/디 용어집 산화장치 웨이퍼처리공정
플라즈마 양극(陽極) 산화장치 - plasma oxidation system

화학적으로 활성화한 산소플라즈마와 웨이퍼와의 반응으로 산화막을 형성하는 장치. 열산화법에 비하여 저온에서 막을 성장시킬 수 있다.

반/디 용어집 산화장치 웨이퍼처리공정
저항가열 히터 - resistance heating element

고온벽 열처리반응로를 구성하는 전기저항을 이용한 가열용 히터. 쓰루풋의 향상시키기 위해, 급속가열, 냉각이 가능한 히터를 개발하고 있다.

반/디 용어집 산화장치 웨이퍼처리공정
카세트 전달기 - cassette transfer

여러 개의 수직형 반응관을 일렬로 나열하여 자동화한 장치의 한 끝에서 카세트를 반응관열을 따라 이동(반송)하고, 각 반응관에 설치된 웨이퍼 자동이송탑재장치에 카세트를 받거나 넘겨주는 장치.

반/디 용어집 산화장치 웨이퍼처리공정
튜브제어기 - tube controller

산화, 확산, CVD장치로 석영 또는 SiC의 반응관을 사용하여 공정처리를 하는 장치에 있어서, 각 반응관마다 처리공정이 다를 수 있어, 튜브마다 온도․압력․가스의 종류 및 가스유량․시간을 개별적으로 제어하기 위한 제어기.

반/디 용어집 산화장치 웨이퍼처리공정
공정 튜브 - process tube

열처리장치에 있어서, 직접 장치 안의 내부에 고순도가스 등을 주입시킨 웨이퍼를 처리하기 위한 튜브의 총칭. 주로 고순도 석영가스가 사용되지만, 고온 공정용으로써는 실리콘카바이드(SiC)가 사용된다.

반/디 용어집 산화장치 웨이퍼처리공정
급냉로 - rapid cooling system

산화, 확산 및 CVD장치에 있어서, 노 안의 온도를 급속히 저하시킬수 있는 전기로. 웨이퍼를 처리하는 온도와 웨이퍼를 꺼낼 때의 온도가 다를 경우, 쓰로풋을 향상시킬 수 있다.

반/디 용어집 산화장치 웨이퍼처리공정
램프업 - ramp up

웨이퍼를 열처리반응로 안에 삽입한 후, 처리온도까지 어떤 정해진 속도로 온도를 상승시키는 것. 단위시간당 상승온도. 반대로 정해진 속도로 온도를 하강시키는 것을 쿨다운(cool down)이라고 한다.

반/디 용어집 산화장치 웨이퍼처리공정
균열관 - liner tube

각종 가열원을 이용하여 시료를 가열하는 장치에 있어서, 가열원의 온도가 그대로 시료속으로 전달하지 않게, 가열원과 시료 사이에 넣어 시료를 가열할 때 온도를 균일하게 하기 위한 용기. 주로 관(파이프) 모양의 용기가 사용된다.

반/디 용어집 산화장치 웨이퍼처리공정

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균열관 - liner tube