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식각 비율 - etching rate

식각(etching)에 의해 단위시간에 용해된 차광막․레지스트막 등의 두께

반/디 용어집 마스크 블랭크 제조 마스크제조공정
시프터결함 - shifter defect

위상 시프트 마스크에 있어서, 시프터패턴의 결함, 시프터 위상차의 부정합, 시프터 정렬의 부정합, 시프터 폭의 부정합, 시프터의투과율의 변화 등의 결함의 총칭.

반/디 용어집 결함검사장치 검사장치
블랭킹 주파수 - blanking frequency

라스터 방식의 전자빔 노광장치에서 일정 폭의 편향주사와 동기시켜서 빔을 온/오프시키는 주파수.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
비점수차 - astigmatism

원형의 단면을 가지며, 렌즈를 통과하는 빔이 회전대상에 집속되지 않고, 기판면 위에 타원형이 되는 수차. 이 수차는 비점보정장치(스티그미터)를 이용하여 보정하는 것이 가능하다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
전자선손상 - damage of electron beam

전자빔을 시료에 조사하면서 발생하는 시료의 손상. 전자빔의 가속전압이 높을수록, 전자빔의 조사량이 많을수록 손상이 크다.

반/디 용어집 검사장치 마스크제조공정
정전파괴 - static demage

정전기 유도 현상에 의해, 마스크에 일단 전하가 축적된 상태에서, 방전에 의한 발열로 마스크 패턴의 일부가 녹아 패턴에 결함이 발생하는 것.

반/디 용어집 기본․공통 마스크제조공정
휘도 - brightness

단위시간에 단위면적, 단위입체각(solid angle)내에서 방사되는 전자의 양[단위:A/㎡sr]

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
샷 분할 - shot partition

성형빔(정사각형 빔)방식의 전자빔 묘화장치에 있어서, 묘화되는 패턴을 실제 조사(照射)하는 빔에 대응하는 크기 혹은 형상으로 분할하는 것.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
샷타임변조 - shot time modulation

근접 효과 보정 수단의 하나로, 도형의 치수 정밀도를 향상시키기 위해 도형 치수에 맞춰, 샷 하는 노광시간을 변화시키는 것

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

탄성계수 - elastic modulus

프란틀 수 - Prandtl number

공칭 응력 - nominal stress

유동박리 - flow separation

CFL수 - Courant - Friedrichs...

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정전파괴 - static demage

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샷 분할 - shot partition

샷타임변조 - shot time modulation

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