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CAE 입문자도 쉽게 이해할 수 있는 '알기 쉬운 기술 용어집'

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유리 기판 글래스기판 - glass substrate

평탄하게 연마된 판상의 유리로써, 금속박막이 형성되지 않은 상태의 포토마스크 제조용 기판. 소다(soda)․석회유리(limeglass)․알루미늄․폴리실리케이트 유리(polysilicate glass)․석영유리 등이 사용된다.

반/디 용어집 마스크 블랭크 제조 마스크제조공정
오페킹 - opaqueing

오페킹다잉(opaqueing dying)과 화학적 수단을 이용하여 마스크와 레티클 위의 빔홀과 도형을 수정하는 것.

반/디 용어집 검사장치 마스크제조공정
워킹마스크 - working mask

마스터 마스크로부터 복사한 마스크

반/디 용어집 기본․공통 마스크제조공정
이물검사 랭크 - rank of detecting particles

검출된 이물의 크기의 분류.

반/디 용어집 검사장치 마스크제조공정
위상차측정장치 - phase shift measure - ment system

마하엔터간섭계를 응용하여 스테퍼의 노광파장과 동일한 파장에서 위상 시프트 마스크의 위상차 혹은 투과율을 측정하는 장치

반/디 용어집 검사장치 마스크제조공정
삽입패턴위치부정합 - shift of inserted pattern

마스크 또는 웨이퍼 위에 다이 배치의 일부분이 정렬표시층(alignment mark) 등의 다른 패턴을 삽입할 때, 패턴의 중심이 다이의 중심과 어긋나는 것 또는, 어긋난 양

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
서브필드 - subfield

복수개의 편향기로 구성된 편향계의 경우, 편향 영역이 작은 쪽 영역

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
에지러프니스 - edge roughness

묘화된 패턴의 에지부의 굴곡 정도. 레지스트, 공정조건, 전자빔의 직경 및 빔의 모양 등에 의해 변한다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
선택여기 - selective excitation

반응가스에 더해지는 가시영역과 자외선영역 파장의 빛을 선택하여 반응가스를 활성화하는 것

반/디 용어집 검사장치 마스크제조공정

기술용어통 처음으로

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

탄성계수 - elastic modulus

프란틀 수 - Prandtl number

공칭 응력 - nominal stress

유동박리 - flow separation

CFL수 - Courant - Friedrichs...

유리 기판 글래스기판 - glass substrate

오페킹 - opaqueing

워킹마스크 - working mask

이물검사 랭크 - rank of detecting particles

위상차측정장치 - phase shift measure - ment system

삽입패턴위치부정합 - shift of inserted pattern

서브필드 - subfield

에지러프니스 - edge roughness

선택여기 - selective excitation

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