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에멀젼마스크 - emulsion mask

할로겐화 은유제(銀乳劑)를 사용하며, 여러 번 노광한 후 폐기한다.

반/디 용어집 기본․공통 마스크제조공정
하드마스크 - hard mask

마스크 종류 중에 하나로, 특히 차광막으로서 금속 등을 이용한 것. 에멀젼 마스크에 비하여 물리적, 화학적 내구성이 우수하다.

반/디 용어집 기본․공통 마스크제조공정
포지티브레지스트 - positive resist

빛, X선 또는 전자빔으로 노광하면 현상액이 녹아, 현상할 때 기판 표면에서 제거되는 특성을 가진 감광성 재료로써, 내식각성이 강하고 콘트래스트～2.2정도로 높으며, 해상력이 뛰어나지만, 열적 특성이 떨어진다.

반/디 용어집 기본․공통 마스크제조공정
스크러버 세정장치 - scrubber

회전하는 브러시 또는 스폰지에 세정액을 부으면서 세정 면을 누르고, 이동시키면서 표면에 부착된 이물을 문질러 씻어내는 장치

반/디 용어집 마스크 블랭크 제조 마스크제조공정
포토레지스트 - photo resist

빛을 받으면 현상액에 대한 용해성이 변하는 레지스트. 빛을 받은 부분이 현상액에 녹으면(즉, 반응하면) 포지티브, 녹지 않으면 네거티브 레지스트라 한다.

반/디 용어집 기본․공통 마스크제조공정
레지스트 - resist

마스크제조공정에 있어서 내식각성 패턴 형성에 필요한 빛, 전자선 등에 대하여 감광성(感光性)을 가진 재료로 마스크 블랭크에 도포된다.

반/디 용어집 기본․공통 마스크제조공정
인프로세스 평가 - inprocess evaluation

프로세스 라인에서 마스크를 꺼내 검사한 후 라인으로 다시 되돌려 놓는 프로세스 평가방법

반/디 용어집 검사장치 마스크제조공정
임계선폭 미세치수 - critical dimension CD

일반적으로, 100㎛ 이하 패턴의 선폭과 간극, 패턴 위치 등을 표시하는 치수. 주로 설계상 가장 취약한 부분이나 칩내의 특정부위에 선폭확인용 패턴을 그려넣어, 노광량, 현상조건, 식각조건 등의 프로세스 파라메터 관리와 제품의 치수관리에 이용된다.

반/디 용어집 기본․공통 마스크제조공정
음향광학 소자 - acousto optical modulator

초음파에 의해 석영가스의 굴절률을 변화시켜, 빛의 경로를 편향시키는 소자

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

탄성계수 - elastic modulus

프란틀 수 - Prandtl number

공칭 응력 - nominal stress

유동박리 - flow separation

CFL수 - Courant - Friedrichs...

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레지스트 - resist

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음향광학 소자 - acousto optical modulator

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