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컬럼 - column

기판 위에 배열된 다이의 수직방향의 배열

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
프린터빌리티 - printability

스테퍼 등에 사용되는 마스크 위의 패턴 결함이 웨이퍼 위로 전사(轉寫)될 가능성. 일반적으로는 스테퍼의 렌즈개구수(NA), 포커스, 웨이퍼 공정 조건, 마스크 위의 패턴 결함의 크기, 종류, 위치 등이 파라메터가 된다.

반/디 용어집 기본․공통 마스크제조공정
흑결함수정 - repair of opaque defect

기판 위의 불투명결함(흑결함)부를 식각․레이저트리밍․스퍼터링 등으로 제거하고, 투명하게 하여 결함을 수정하는 것. 리프트온법․스퍼터링법 등이 있다.

반/디 용어집 검사장치 마스크제조공정
진공큐어링 - vacuum curing

전자빔 묘화 후의 네거티브 레지스터의 후중합(後重合)효과를 균일하게 하기 위해, 장치 안을 진공으로 유지시키고 그속에 묘화한 기판을 나두는 것.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
표준패턴 비교법 - standard pattern comparision

검사하려는 마스크의 패턴을 미리 준비한 표준 마스크의 패턴과 비교하여, 일치하지 않는 부분을 패턴결함으로 인식하는 검사법

반/디 용어집 결함검사장치 검사장치
최소검출결함 - minimum size of detected defects

허용되는 검출률 이상으로 검출되는 결함 중에서 최소의 결함치수

반/디 용어집 결함검사장치 검사장치
패턴 룰 - pattern rule

디바이스를 설계하는 경우 패턴의 수치단위(sizing) 및 레이아웃(layout)에 관한 규칙.

반/디 용어집 검사장치 마스크제조공정
집속이온빔 수정장치 FIB 리페어 - focused ion beam repair system

전자와 비교하여 질량이 무거운 이온을 가속, 집속시켜 마스크를 수정하는 장치. 반응성 가스를 불어넣은 카본 또는 금속을 석출하여 백결함을 수정하기도 하고, 마스크 표면의 크롬 등을 스퍼터링하여 흑결함을 수정할 수도 있다.

반/디 용어집 검사장치 마스크제조공정
F - θ렌즈 - F - θ lens

폴리곤미러(polygon mirror)에서 발생하는 레이저빔 등이 등속원운동하는 것을 직선등속운동으로 바꾸어주는 렌즈군(群) 초점거리:f 레이저의 편형각:θ일 경우점상(点像)의 높이:h를 h=fθ가 되도록 왜곡수차를 준 렌즈군(群)에 의해 h가 등속운동하게 된다. 보통, 일반렌즈에서는 h=f×tanθ가 되어등속운동이 되지 않는다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

탄성계수 - elastic modulus

프란틀 수 - Prandtl number

공칭 응력 - nominal stress

유동박리 - flow separation

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F - θ렌즈 - F - θ lens

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