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Z측정 - Z measure - ment

전자빔의 조사위치에 있어서, 기판의 높이 방향의 기준위치에서 어긋난 정도를 측정하는 것.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
편향범위 - deflection area

편향기로, 전자빔을 필요한 정밀도로 편향할 수 있는 범위

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
효과 에지 - effective edge

마스크 패턴의 절연부에서 빛의 투과율이 같은 점을 연결한 궤적. 패턴의 실질적인 경계선이 된다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
플래트니스 테스터 평면도측정기 - fletness tester

기판의 평탄도를 측정하는 장치. 평탄도가 매우 높은 기준판(optical flat)과 프리즘을 피검사판과 평행하게 세팅하여, 레이저광선으로 얻어지는 간섭 골의 개수, 모양(간섭 골의 간극)에 의해 평탄도가 측정된다.

반/디 용어집 검사장치 마스크 블랭크 제조
패턴형성장치 - pattern lithography system

마스크 블랭크 위에, 원화 패턴을 형성하기 위해, 노광묘화, 현상, 베이킹, 식각, 레지스트 제거, 세정 등을 행하는 장치의 총칭

반/디 용어집 마스크제조공정 패턴형성장치
키마크범위 - keymark zone

마스크 패턴을 웨이퍼에 전사(轉寫)할 때 사용하는 정렬 마스크를 구성하기 위한 마스크 위의 영역

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
챔버 퍼지 - chamber purging

CVD에 있어서 반응가스를 도입하는 전후의 공정에서 캐리어 가스로 반응실을 정화하는 것.

반/디 용어집 검사장치 마스크제조공정
장시간묘화위치정밀도 - closure long term die to die error

묘화를 시작할 때부터 종료할 때까지 발생하는 패턴의 상대적인 위치 부정합의 정밀도. 일반적으로 묘화를 시작하고 종료할 때에 각각을 비교하여 패턴을 묘화하는 방법이 이용되고 있다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
셀 - cell

(1)칩 패턴을 형성하는 패턴 데이터의 단위의 명칭으로써, 메모리 패턴 등에 동일한 패턴이 반복하여 배열되어 있는 경우에 반복되는 기본 단위의 패턴. (2)라스터 스캔방식의 전자빔 묘화장치의 라스터 주사(走査)폭과 같거나, 혹은 주사폭을 자연수(自然數)로 나눈 값과 같은 폭을 가지는 띠 모양의 작은 영역을, 편의상 띠의 긴 쪽 방향으로 일정한 단위의 구역으로 나눌 수 있는 대형 영역. 프레임은 이런 대형 영역을 긴 쪽 방향으로 틈새 없이 병렬로 배치한 것의 집합이다. 묘화장치가 가지고 있는 도형 데이터의 기억 또는 화소의 발생을 처리하는 처리용양의 단위와 동일하다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

탄성계수 - elastic modulus

프란틀 수 - Prandtl number

공칭 응력 - nominal stress

유동박리 - flow separation

CFL수 - Courant - Friedrichs...

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효과 에지 - effective edge

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패턴형성장치 - pattern lithography system

키마크범위 - keymark zone

챔버 퍼지 - chamber purging

장시간묘화위치정밀도 - closure long term die to die error

셀 - cell

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