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CD선형성 선폭선형성 - CD linearity

기판 위에 형성된 패턴 선폭과 설계 선폭과의 관계의 선형성

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
필드 - field

전자빔 묘화장치에 있어서 편향주사기로 기판 위에 빔을 조사(照射) 수 있는 범위

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
흑백반전 극성반전 - tone reversal

원래 도형의 극성을 반전시키는 것.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
최소선폭 - minimum line width

묘화 레지스터의 분해능으로 직선을 형성시키는 최소의 선폭

반/디 용어집 기본․공통 마스크제조공정
축소렌즈계(係) - demagnifi - cation lens system

전자빔 상(image)을 축소시킬 목적으로 구성된 전자광학렌즈계. 일반적으로 축소투영렌즈를 사용한다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
패턴밀도 - pattern density

포토마스크에 묘화된 단위면적당 도형의 수. 전자빔, 레이저 묘화장치에서 칩 단위 혹은 셀 단위 등의 묘화 데이터 수로 표현된다

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
패턴비교 검사장치 - pattern compensat - oin inspection system

검사하려는 마스크 패턴을 마스크의 안 또는 마스크 사이의 패턴과 비교하여, 이 두 개의 패턴이 일치하지 않는 부분을 패턴결함으로 인식하는 검사장치.

반/디 용어집 결함검사장치 검사장치
펠리클 - pellicle

마스크와 레티클에 이물이 끼는 것을 막기 위해, 마스크와 레티클 위에서 일정한 거리까지 설계한 투명한 보호막. 이 일정한 거리(stand off)는 보호막 표면 위에 부착된 이물이 웨이퍼로 전사되는 성질 때문에 설계된다. 또, 보호막은 사용하는 노광광원에 대하여 투과성을 가지며, g선용, i선용, ig선공용, 광대역파장용 등이 있다.

반/디 용어집 검사장치 마스크제조공정
칩 배율 다이 배율 - die magnification

묘화된 칩(다이)의 크기가 설계된 모양과 닮은꼴로 축소․확대될 때의 비율.

반/디 용어집 검사장치 마스크제조공정

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자주 찾는 용어

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패턴비교 검사장치 - pattern compensat - oin inspection system

펠리클 - pellicle

칩 배율 다이 배율 - die magnification

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