반디통 용어집

CAE 입문자도 쉽게 이해할 수 있는 '알기 쉬운 기술 용어집'

CAE 용어집

CAE 관련 용어를 확인해 보세요.

반/디 용어집

반도체 / 디스플레이 공정 및 장비 관련 용어를 확인해 보세요.

통신 용어집

통신 분야의 다양한 용어를 확인해 보세요.

All
CAE
반도체∙디스플레이
통신

블랭킹전극 - blanking electrode

전자빔을 고속에 온(on), 오프(off)하기 위한 정전편향기. 전자빔을 막기 위한 개구판(또는 차광판)과 한쌍으로 이용되고 있다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
반사율 - reflectance reflectivity

입사광 강도에 대한 반사광 강도의 비율. 스테퍼 전사(轉寫)시에 마스크 면에서의 반사광인 미광(迷光, stray light)이 전사된 패턴에 영향을 미치는 것을 막기 위해, 전사광의 파장(g선, i선 등)에 대해 각각 반사율이 낮은 저반사 코팅(coat)층을 구비한 구조(2층, 3층)의 마스크가 이용되고 있다.

반/디 용어집 기본․공통 마스크제조공정
스캔선형성 - scan uniformity

묘화장치로 빔을 스캔할 때, 스캔 방향의 좌표 정밀도. 일반적으로, 스캔 선형성은 묘화 패턴의 이상적인 값과의 부정합된 값의 최대값으로 표현된다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
박막형성장치 - thin film deposition system

마스크 블랭크에 박막을 붙이는 장치로, 스퍼터링(sputtering)장치․CVD장치․진공 증착장치 등이 있다.

반/디 용어집 마스크 블랭크 제조 마스크제조공정
세정․건조 장치 - cleaner and dryer

마스크 블랭크 위에 원화패턴을 형성한 후, 이것들을 세정 및 건조하는 장치로써, 초음파세정장치․스크럽세정장치․고압수분사세정장치․화학세정장치․건조장치 등이 있다. 이들 장치의 용어의 의미는 웨이퍼처리공정의 용어를 참조할 것.

반/디 용어집 마스크제조공정 패턴형성장치
배열 어레이 - array

주(主) 패턴과 보조패턴 등을 기판 위에 배치하는 것

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
벡터스캔 - vector scan

필요한 부분만 빔을 이차원적으로 주사시켜, 패턴을 형성하는 묘화 방식

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
보조패턴 OPC - optical proximity correction

마스크 패턴을 웨이퍼에 비출 때, 미리 변형될 값을 계산하여, 이변형값을 보정하는 패턴

반/디 용어집 기본․공통 마스크제조공정
샤프니스 - sharpness

상의 주변부가 시각적으로 뚜렷하게 보이는 정도

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정

기술용어통 처음으로

반디통 용어집

CAE 용어집

반/디 용어집

통신 용어집

자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

탄성계수 - elastic modulus

프란틀 수 - Prandtl number

공칭 응력 - nominal stress

유동박리 - flow separation

CFL수 - Courant - Friedrichs...

블랭킹전극 - blanking electrode

반사율 - reflectance reflectivity

스캔선형성 - scan uniformity

박막형성장치 - thin film deposition system

세정․건조 장치 - cleaner and dryer

배열 어레이 - array

벡터스캔 - vector scan

보조패턴 OPC - optical proximity correction

샤프니스 - sharpness

더 빠른 설계를 위한 첫 걸음!