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산란 효과 - scattering effect

전자빔을 묘화할 때, 전자빔이 산란되고 확산되는 것에 의한 효과인데, 레지스트에 입사한 전자가 레지스트를 구성하는 원자와 충돌하여 진행방향으로 산란이 확산되면서, 진입해 가는 전방산란과, 레지스트를 관통한 후에 기판을 구성하는 원자와 충돌하여 진행방향과 반대 방향으로 산란하는 후방산란효과가 있다. 이것들은 공통적으로 가속전압, 레지스트막의 두께 등에 의존한다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
묘화인크리먼트 - adress increment

레지스트 사이즈와 동의어

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
센트럴리티 - centralty

기판 중심과 다이 배열의 중심과의 부정합. 오프센터(off-center)라고도 부른다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
백결함수정 - repair of clear defect

기판 위의 투명결함(백결함)부분에 C, Cr 등의 불투명물질을 부착시켜 결함을 수정하는 것. 리프트오프법․레이저 CVD법․이온빔유기 CAD법․스퍼터링법 등이 있다.

반/디 용어집 검사장치 마스크제조공정
시프터 - shifter

위상 시프트 마스크(PSM)에 있어서, 빛의 파장을 변화시켜 위상차를 발생시키는 물질. SOG, SiO2 등이 이용된다. 시프터 막의 두께d는 d=λ/2 (n-1) [λ:빛의 파장, n:시프터의 굴절률]일 경우에 위상은 180̊반전된다.

반/디 용어집 기본․공통 마스크제조공정
빔 정렬 - beam alignment

전자 또는 레이저광학계의 각 구성요소의 광축을 합성하는 것. 각 요소를 기계적으로 위치 조정하는 방법과 편향기를 설계하여 빔의 위치를 조정하는 방법이 있다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
성형편향계 - beam shaping system

전자빔을 원하는 모양으로 성형하기 위한 렌즈, 성형 개구, 편향기 등이 유기적으로 결합된 계.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
현상후선폭 - ADI CD

현상후 레지스트의 선폭으로 After Development Inspection CD의 약자

반/디 용어집 기본․공통 마스크제조공정
플래싱 - flashing

전자총의 이미터표면에 흡착된 가스분자를 정기적으로, 짧은 시간 안에 고온가열하여 표면을 깨끗하게 하는 것.

반/디 용어집 검사장치 마스크제조공정

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

탄성계수 - elastic modulus

프란틀 수 - Prandtl number

공칭 응력 - nominal stress

유동박리 - flow separation

CFL수 - Courant - Friedrichs...

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플래싱 - flashing

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