레지스트 박리액을 담은 통에, 식각을 마친 웨이퍼를 침적시켜, 웨이퍼 위에 레지스트를 박리제거하는 장치. 0.5㎛이상의 선폭에 사용되며, 많은 공간을 필요로 하고, 불순물 등을 주기적으로 청소해 주어야 한다.
반/디 용어집애싱장치웨이퍼처리공정
역침투막 RO막 - reverse osmosis membrane
역침투현상이 일어나는 여과막. 수중에 녹아있는 이온을 미리, 유기물, 미립자, 생균 등을 제거할 수 있다.
반/디 용어집설비․환경공정물
블라인드 - blind
레티클패턴 영역을 벗어나는 부분의 빛을 차단하기 위해 설치
반/디 용어집웨이퍼처리공정노광
빔전류량 이온전류량 - beam current ion current
이온빔의 양을, 이온이 조사될 때에 단위시간당 운반되는 전하량, 즉 전류로 표시하는 것. 타겟에 있어서 시료에 조사되는 이온빔의 양을 말한다. 다가(多價)이온으로 된 이온빔의 경우, 이 전류량자체로 표시하는 경우와 전류량을 이 이온의 전하량으로 뺀 수치로 표시하는 경우가 있는데, 각각 eA(electric Ampere), pA(particle Ampere)등으로 표시한다.
반/디 용어집이온 주입장치웨이퍼처리공정
소켓식 콘택트 - socket type contact
핸들러로 피측정디바이스를 테스트회로와 전기적으로 접속하기 위하여 피측정디바이스의 입출력핀 또는 입출력단자가 삽입된 소켓모양의 부품을 사용한 접촉방식.
반/디 용어집사공정핸들링
사이트FPD - site FPD
흡착고정 등에 의해, 웨이퍼 뒷면을 평탄하게 교정한 상태에서, 각 사이트마다 지정된 초점면에서의 각 사이트표면에서의 최대거리.
반/디 용어집검사웨이퍼제공정
방진복 - clean garments dust free garments
먼지가 덜 나는 옷감을 사용하여, 작업자의 피부와 속옷 등에서 발생한 먼지가 투과하지 않도록 한 청정실용 옷. 오버올(overall)형과 분리(separate)형이 있다. 모자 혹은 신발과 일체로 된 것이 있다.
반/디 용어집청정실설비․환경공정
베이스라인 - base line
오프액시스정렬(off-axis alignment)스코프에 의해 규정된 정렬용 기판. 또는 이 기판에 의한 정렬위치와 노광위치와의 거리.
