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광화학세정 장치 UV 오존 세정장치 자외선오존 세정장치 - photo - chemical cleaning equipment

200nm보다 짧은 파장을 포함하는 빛을 산소를 포함하는 분위기 중에 있는 오염면에 비추어, 세정대상물 표면의 유기오염물을 산화분해하여 제거하는 장치.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 건식세정장치
감진장치 - seismometer

지진의 진동을 검지하는 장치. 진동이 설정된 레벨에 달하면, 경보신호가 나온다.

반/디 용어집 청정실 감진장치
검출감도 - detection sensitivity

결함, 이물 등의 검사 가능한 최소 크기. 검출률과 함께 표시되며, 검출기의 감도특성을 표시하는 의미에서 사용되어지고 있다.

반/디 용어집 detection sensitivity 검출감도
가변개구 - variable aperture

패턴 제너레이터에 있어서, 패턴 데이터 정보에 의해 장방형의 폭, 높이, 회전각도(0°～90°)가 변하는 개구(開口)

반/디 용어집 variable aperture 노광․묘화장치
가스배관접합기술 - gas pipeline installation technology

가스공급계를 구성하는 부품을, 계수(fitting) 또는 용접에 의해 접속하는 기술. 용접에 관해서는, 거울면(경면)연마된 가스접촉면 위에 산소물 혹은 카본 등을 석출시키지 않도록, 자동용접기를 이용하여 맞대어 접속하는 방법이 채용된다.

반/디 용어집 가스 설비․환경공정
고전압원 - high voltage power supply

전자빔을 가속하기 위해 전자원(電子源)에 인가된 직류전압전원. 전자빔의 안정도를 얻기위해, 고안정화 전원이 이용되고 있다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 고전압원
기준 마크 - fiducial mark

웨이퍼스텝 위의 고정된 베이스라인의 변동량을 측정하기 위한 전용 마크.

반/디 용어집 기준 마크 fiducial mark
감압탈기포 침적식 식각장치 - evacuated wet etching system

화학식각으로 발생하는 수소의 기포를 제거하기 위해 식각수조를 밀폐하는 것과 함께 내부공기를 배기(排氣)할 수 있도록 하는 장치.

반/디 용어집 감압탈기포 침적식 식각장치 웨이퍼 식각장치
고온판오븐 - hot plate oven

표면처리를 실시한 평탄한 금속판 위에 웨이퍼를 가열하는 장치. 금속판의 아래에는 히터가 부착되어 있고, 주변에는 배기구멍을 가지고 있는 것이 일반적이다.

반/디 용어집 베이킹장치 웨이퍼처리공정

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

프란틀 수 - Prandtl number

탄성계수 - elastic modulus

공칭 응력 - nominal stress

유동박리 - flow separation

CFL수 - Courant - Friedrichs...

광화학세정 장치 UV 오존 세정장치 자외선오존 세정장치 - photo - chemical cleaning equipment

감진장치 - seismometer

검출감도 - detection sensitivity

가변개구 - variable aperture

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고전압원 - high voltage power supply

기준 마크 - fiducial mark

감압탈기포 침적식 식각장치 - evacuated wet etching system

고온판오븐 - hot plate oven

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