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네거티브 포토마스크 - negative photomask

화상부가 투명하고 주위를 불투명하게 한 포토마스크로 그림의 (c)와 (d)가 이것에 해당된다.

반/디 용어집 기본․공통 negative photomask
가스․입자변화 - gas to particle conversion

가스분자가 응집되어 미립자를 생성하는 현상. 이 현상 때문에 0.1㎛이하의 미립자가 많다. 예를들면, 청정실내 산성가스도 황산미스트 등을 핵으로 응집되고, 미립자로 성장한다. 또, 이오나이저전극근방에서도 다량의 가스․입자변환현상이 일어나는 것을 측정한 예도 있다.

반/디 용어집 청정실 gas to particle conversion
검사비율 - test rate

기능시험에 있어서, 한 스텝의 테스트 데이터를 발생하는 데 필요한 값. 단위에는 시간(ns, μs 등)을 이용한다.

반/디 용어집 기본․공통 사공정
리던던시 분석기 MRA - redundancy analyzer

용장(redundant)회로에 부가된 메모리디바이스의 불량구제판정을 고속으로 처리하기 위한 전용장치. 테스트시스템에 의해 검출된 피측정디바이스의 불량어드레스 정보를 기초로, 불량구제판정을 실행하는 기능을 갖는다.

반/디 용어집 사공정 디버그
리드 온 칩 LOC - LOC lead on chip

칩 위에 리드를 배치하여 와이어 본딩을 실시하는 것이며, 이것에 의하여 패키지 사이즈를 작게하는 반도체 디바이스의 총칭.

반/디 용어집 조립공정 기본․공통
레티클 스테이지 마스크 스테이지 - reticle stage mask stage

레티클을 미동(微動)시켜, 노광위치를 결정하는 기구. 같은 방법으로 마스크를 움직여 노광위치를 결정하는 기구를 마스크 스테이지라고 한다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
링크컷데이터 퓨즈데이터 - link cut data fuse data

구제된 칩과 불량 셀 어드레스정보를 합한 메모리디바이스의 시험결과데이터.

반/디 용어집 사공정 레이저리페어 장치
공작주축대 주축대 - wheel head spindle head head stock

공작주축 또는 공작주축과 공작물 구동장치 등을 갖추고 있는 주축대.

반/디 용어집 기계가공 공작주축대 주축대
건조장치 - drying equipment

습식세정 후의 웨이퍼에서 물을 제거하여 건조상태로 만드는 장치.

반/디 용어집 drying equipment 웨이퍼처리공정

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

프란틀 수 - Prandtl number

탄성계수 - elastic modulus

공칭 응력 - nominal stress

유동박리 - flow separation

CFL수 - Courant - Friedrichs...

네거티브 포토마스크 - negative photomask

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리드 온 칩 LOC - LOC lead on chip

레티클 스테이지 마스크 스테이지 - reticle stage mask stage

링크컷데이터 퓨즈데이터 - link cut data fuse data

공작주축대 주축대 - wheel head spindle head head stock

건조장치 - drying equipment

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