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레지스트레이션 마스크중복정밀도 - registration mask overlay accuracy

각 공정 사이에서의 마스크 또는 레티클의 패턴 위치의 상대적 위치 오차. 묘화장치에서 마스크 또는 레티클의 패턴을 묘화시킬 때의 피치(pitch)정밀도 또는 치수정밀도에 기인한다.

반/디 용어집 기본․공통 마스크제조공정
도트 로깅 - dot logging

이미지센서의 점결함의 수평어드레스, 수직어드레스 및 결함상태를 수집하는 것. 이것들의 데이터를 기초로 하여, 결함 셀의 위치를 확인하거나 ROM에 의해 보상할 때에 데이터로 활용한다.

반/디 용어집 사공정 이미지센서 검사장치
디바이스 프로그램 번역기 - device program translator

다른 시험장치의 디바이스 프로그램을, 지금 사용하는 장치고유의 디바이스 프로그램으로 편성․변환하기 위한 소프트웨어 툴.

반/디 용어집 기본․공통 사공정
레티클 - reticle

스테퍼(stepper) 또는 포토 리피터(photo repeater)에 이용되는 포토 마스크. 레티클 위에는 IC패턴 원판보다 1～10배의 패턴이 형성되어, 이것을 스테퍼로 웨이퍼 위에, 또는 포토 리피터로 포토 플레이트(photo plate) 위에 투영 (投影)노광시킨다.

반/디 용어집 기본․공통 마스크제조공정
다층막 미러광학계 - multilever mirror optics

두 개의 물질을 번갈아 가며 적층시켜 정밀도가 좋은 다층막미러로 구성된 광학계. X선 영역에서 높은 반사율이 얻어지고, 축소투영리소그래피에 이용된다. 파장 13nm에서, Mo와 Si의 다층막미러계에 의해 50nm의 L&S 패턴이 형성된다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
매엽식 세정장치 - single wafer processing cleaner

웨이퍼를 한 장씩 세정처리하는 방법의 장치이고, 배치식에 대응하여 매엽식이라고 한다. 세정방법에는 스프레이 등의 습식처리식과 기상세정처리식이 있다. 300㎜ 이상의 대구경 웨이퍼의 세정에 적당하다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 습식세정장치
마그네트론 - magnetron

공동공진기(cavity resonator)로써 작동하는 원통 모양의 양극과, 이 중심축 위에 설계된 가는 양극에 의해, 양극 중심축방향의 정자장(magnetostatic field)과 작용공간에의 전자와의 상호작용로 마이크로파를 발진하는 진공관.

반/디 용어집 건식식각장치 웨이퍼처리공정
레티클로더 레티클 체인저 - reticle loader reticle changer

레티클 여러 장을 보관하고 있으며, 노광위치에서 왕복이동하는 기구. 보관하는 것이 마스크일 경우, 마스크로더, 마스크체인저라고 한다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
램프업 - ramp up

웨이퍼를 열처리반응로 안에 삽입한 후, 처리온도까지 어떤 정해진 속도로 온도를 상승시키는 것. 단위시간당 상승온도. 반대로 정해진 속도로 온도를 하강시키는 것을 쿨다운(cool down)이라고 한다.

반/디 용어집 산화장치 웨이퍼처리공정

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램프업 - ramp up

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