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윤활면 - slip plane

결정에서 병진과 쌍정(twin)의 미끄럼이 일어나는 격자면.

반/디 용어집 특성용어 검사
원통형 플라즈마 식각장치 - barrel type plasma etching ystem

원통형 식각실의 바깥 둘레에 전극을 설치하여, 식각실 안의 플라즈마에 의해 생성된 중성라디칼로 실내의 웨이퍼를 식각하는 플라즈마 식각장치. 식각실 안에 금속제 터널을 넣어, 하전입자가 웨이퍼에 입사되는 것을 억제하는 방식도 있다.

반/디 용어집 건식식각장치 웨이퍼처리공정
연소식배기처리장치 - exhaust gas abatement for incineration process

배기를 LPG 등의 조제에 의해 강제적으로 연소시켜, 유해성분을 연소분해하는 장치. 주로 물이나 약액으로 세정하는 것이 부적절한 가스(실란, 디클로로실란 등)의 제거에 이용된다.

반/디 용어집 가스 설비․환경공정
용융점 융점 - melting point

금속이 액화하는 온도. 순금속이나 공정합금은 그 온도는 일정하나 일반적합금은 어떤 대역의 온도범위를 갖는 것이 많다.

반/디 용어집 결정성장 웨이퍼제공정
웨이퍼 디스크 - wafer disk

배치처리가 가능하도록 웨이퍼 여러 장을 정전할 수 있도록 한 원판. 주입균일성을 확보하고 열에 의한 웨이퍼의 데미지(demage)를 피하기 위해 고속회전하고, 또 동시에 병진운동하기도 한다.

반/디 용어집 이온 주입장치 웨이퍼처리공정
오염먼지농축조 - sludge thickener

폐수처리에서 침전조 등의 고액분리장치에 의해 배출시켜 오염먼지를 농축하기 위해 설치된 수조. 밑부분에 퇴적된 오염먼지는, 소기기 등에 의해 모여진다.

반/디 용어집 초순수장치 설비․환경공정
인렌즈편향방식 - in - lens deflection

최종단 렌즈의 중심에 편향기가 들어있는 빔 편향방식. 편향자장과 렌즈자계의 중첩에 의해 편향 수차를 감소시키는 장점이 있다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
이차전자상관측기능 - secondary electron image

측정하려는 시료에 연속빔을 조사하여 실시간 상(real-time image)을 관측하는 것과 일차전자빔을 조사하여 스트로브상(image)의 관측하는 두가지가 있다.

반/디 용어집 사공정 디버그
웨이퍼엔드 - wafer end

한 장의 웨이퍼측정 종료시에 프로버에서 출력된 신호. 이것 외에 웨이퍼의 언로드(unload)할 때 신호의 웨이퍼카운트(wafer count), 로드엔드할 때 신호의 랏엔드(lot end)가 있다.

반/디 용어집 사공정 핸들링

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

프란틀 수 - Prandtl number

공칭 응력 - nominal stress

탄성계수 - elastic modulus

유동박리 - flow separation

CFL수 - Courant - Friedrichs...

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웨이퍼엔드 - wafer end