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디스큐 - de - skew

시간정밀도에 관한 용어로, 신호 사이에 발생하는 위상과 타이밍의 부정합을 보정하는 것.

반/디 용어집 기본․공통 사공정
동축원통형 플라즈마 CVD - coaxial cylindrical plasma enhanced CVD system

원통형의 외부전극 내부에 다면체(多面體)의 웨이퍼지지 전극판이 동축으로 배치된 용량결합 플라즈마CVD장치. 양전극사이에 고주파전압을 걸어주고, 저압반응가스의 플라즈마를 발생시켜 웨이퍼 위에 박막을 형성한다.

반/디 용어집 CVD 장치 웨이퍼처리공정
라인앤드스페이스 L&S - line and space

직선상에 패턴의 폭을 라인, 이것이 같은 간격으로 나란히 배열된 경우의 라인과 라인의 간격을 스페이스라고 부른다. 라인과 스페이스의 폭이 같은 상태에서 웨이퍼 위에 투여되는 상을 라인앤드스페이스라고 한다. 보통, 해상성능을 표시하는 척도로 사용된다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
대금 코아 - core

연마입자를 고착하기 위한 얇은 금속판.

반/디 용어집 기계가공 절단장치-하드기능
레이저 묘화장치 - laser lithography system

마스크 또는 웨이퍼 위에 레이저광․라스터 스캔방식을 이용하여 패턴을 묘화하는 장치.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
로딩 효과 근접효과 - loading effect proximity effect

동일 웨이퍼 위에, 동일 선폭으로 밀도(스페이스)가 다른 레지스트 패턴을 형성할 때, 스페이스의 간격에 의해, 선폭이 변동하는 현상.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 레지스트 처리
동적패턴추적기 패턴추적기 패턴시뮬레이터 - dynamic pattern tracer

알고리즘 패턴발생기에 의해 발생된 어드레스, 입력/기대값패턴 등의 데이터를 추적(trace) 및 디버그하는 유틸리티.

반/디 용어집 사공정 디버그
레이저 도핑장치 - laser doping system

웨이퍼에 자외선 영역의 파장을 가진 레이저를 쏘아, 광화학반응으로 불순물가스(dopant gas)를 분해하는 동시에 레이저를 쏜 부분을 국부적으로 용해시켜, 이 부분에 불순물을 도핑하는 장치. 이온주입법과 달리, 결함생성이 억제되며, 활성화하기 위한 열처리(anneal)가 필요 없다. 레이저로써 단파장의 엑시머레이저가 주로 사용되고 있다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 도핑
댐 블럭 - dam block

외측 리드의 사이 등에 수지가 흘러가는 것과 절단, 성형 공정에서의 마이크로크랙을 방지하기 위하여 설계된 리드프레임판의 두께부분의 금형돌기.

반/디 용어집 패키지 조립공정

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