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결정면 - crystal surface

결정격자면의 최외각 면.

반/디 용어집 기본․공통 웨이퍼제공정
과잉소거 금지기능 과잉프로그램금지기능 - over - erase prohibit function over - program - ming prohibit function

플래시 메모리 등의 비휘발성 메모리를 동시 측정할 때에, 소거(erase)테스트를 통과(pass)한 DUT에 대하여 소거펄스가 인가되는 것을 금지하고, 소거가 완료되지 않은 DUT에만 소거펄스를 인가하는 기능을 과잉소거금지기능이라고 한다. 또, 쓰기(write)테스트를 통과한 DUT에 대하여 쓰기펄스가 인가되는 것을 금지하는 기능을 과잉프로그램금지기능이라고 한다.

반/디 용어집 사공정 디버그
가스도입계 - gas feed system

이온원으로 가스를 도입하기 위한 시스템(系). 가스박스에서 이온원까지의 가스도입배관과 가스박스의 2부분으로 구성된다. 보통 여러 개의 가스라인이 설치되어 있어, 주입이온의 종류에 맞게 사용이온을 선택한다.

반/디 용어집 이온 주입장치 웨이퍼처리공정
가스희석기 - gas dilution system

특수재료가스를, 캐리어가스로 연속해서 일정의 농도로 희석시키는 장치. 유량제어기(MFC)와 집적화 밸브를 이용하여, 100%의 가스를 1ppm 까지 희석하는 정밀가스 희석장치도 개발되고 있다.

반/디 용어집 수질분석기기 설비․환경공정
관통패널 - perforated panel

자유접근플로어를 구성하는 알루미다이캐스트, 강판 등으로 만들어진 관통바닥패널. 환기의 흡입구로 된 개구를 크게하는 것은 어렵지만, 치수정리도가 높고, 도 작업자의 거주성이 우수하다.

반/디 용어집 청정실 설비․환경공정
공정 튜브 - process tube

열처리장치에 있어서, 직접 장치 안의 내부에 고순도가스 등을 주입시킨 웨이퍼를 처리하기 위한 튜브의 총칭. 주로 고순도 석영가스가 사용되지만, 고온 공정용으로써는 실리콘카바이드(SiC)가 사용된다.

반/디 용어집 산화장치 웨이퍼처리공정
고온측정기능 - hot testing function

핸들러로 피측정디바이스를 가열하여, 고온환경에서의 전기적 특성을 측정 가능하도록 하는 기능.

반/디 용어집 기본․공통 사공정
리니지 - lineage

구조적으로 보면 전위열(轉位列)을 이루고 있어서, 에칭에 의해 전위피트의 배열로 보이며, 결정의 질을 평가하는 경우, 전위피트의 밀도가 25피트/㎟이상으로 피트열의 길이가 0.5㎜이상인 결함.

반/디 용어집 특성용어 검사
가스공급센터 - total gas supply system

반도체제조공장에 인접하여 설치되어, 반도체제조공정에서 사용되는 벌크가스, 캐리어가스, 특수재료가스 및 계장용에어를 일괄하여 공급하기 위한 시설.

반/디 용어집 가스 설비․환경공정

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