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드래프트챔버 - draft chamber

가스형태의 오염물, 먼지, 수분, 열 등이 청정실로 확산되는 것을 막기 위해, 국소배기하는 구조의 발생부를 포위하는 챔버. 식각, 세정공정 등에 이용되고 있다.

반/디 용어집 가스 설비․환경공정
매칭모드 - pattern matching mode

초기상태를 정하지 않은 디바이스의 시험에 있어서, 초기상태설정을 위하여, 한 개 혹은 여러 개의 스텝 패턴을 반복하여 인가하여, 디바이스출력과 원하는 기대값과의 일치 여부을 검출하는 모드.

반/디 용어집 사공정 디버그
동적 전원 전류측정 - dynamic power current measure - ment

피측정디바이스에 시간적으로 변화하는 전원전류를 첨두값(peak), 과도현상(transient response) 등을 측정하는 것.

반/디 용어집 기본․공통 사공정
다이크로익 미러 - dichroic mirror

스테퍼 등에서, 정해진 파장보다 긴 파장은 통과시키고, 짧은 파장은 반사시켜 필요한 빛만 추출하는 거울

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
램프배열 - lamp arrangement

램프가열장치는 막대모양, 공모양 등의 형태를 가진 램프를 광원으로써 이용하는데, 공정 성능을 놓이기 위해 채용하는 각종의 램프 배열방법을 말한다.

반/디 용어집 어닐장치 웨이퍼처리공정
동기이동 - synchronized drive

부동대역법에 있어서 시드축 전송속도와 소재축 전송속도를 기계적 또는 전기적 제어에 의해 동일속도로 이동시키는 속도.

반/디 용어집 웨이퍼제공정 단결정제조
레지스트 막두께분포 레지스트막 균일성 - resist thickness uniformity

웨이퍼 위에 도포된 레지스트 막의 두께의 부정합 정도. 웨이퍼 위에 주변 가장자리(예를 들면, 외주(外周) 2～5㎜ 등)을 제외한 여러 곳의 막두께를 측정해여 평균값, 오차 등으로부터 다음과 같이 표현한다. C1039 C1039-2 C1039-3 웨이퍼균일성; 웨이퍼간 비교. 라트(lot)내 균일성; 동일라트내 비교 라트간 균일성; 다른 라트간 비교등에 활용되고 있다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 도포장치
디버거 - debugger

테스트 프로그램을 실행시키고 임위의 위치에서(program trap), 변수 내용을 참조하거나, 설정값의 변경하여 프로그램의 버그(bug)를 찾아내는 툴(tool)을 말한다.

반/디 용어집 기본․공통 사공정
건식세정장치 - dry cleaning equipment

액체를 사용하지 않고 표면의 오염을 제거하는 장치.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 건식세정장치

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

좌굴 - buckling

감쇠비 - damping ratio

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마찰계수 - friction coefficient

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램프배열 - lamp arrangement

동기이동 - synchronized drive

레지스트 막두께분포 레지스트막 균일성 - resist thickness uniformity

디버거 - debugger

건식세정장치 - dry cleaning equipment

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