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전자빔 노광장치 - electron beam exposure system

전자빔으로 노광하는 노광장치. 빔의 스캔방식으로, 라스터스캔식 전자빔노광장치와 벡터스캔식 전자빔노광장치로 분류된다. 웨이퍼에 직접 전자빔으로 묘화하는 장치를 전자빔직접묘화장치라고 부르는 것도 있다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
좌표반복성 - coordinate shot term repeatability

마스크를 마스크 지지부에 올려놓고 평상시처럼 마스크 위의 패턴 좌표위치를 여러 번 측정한 값들의 오차 정도.

반/디 용어집 검사장치 마스크제조공정
착탈기 - inserter remover

에싱할 디바이스를 번인보드 위의 소켓에 삽입하고, 에싱을 종료한 디바이스를 빼내는 기구. 빼낼 때에 분류수납하는 기능과 소켓의 이상을 체크하는 기능을 동시에 갖는 것이 많다.

반/디 용어집 사공정 에싱
잔류오존 처리장치 - ozone gas processor ozone removal equipment

광화학 세정장치의 자외선 조사로 발생하는 유해한 오존가 장치 밖으로 배출되지 않게 하고, 무해화(無害化) 처리를 하는 장치.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 습식세정장치
하이브리드 스캔 - hybrid scan

빔스캔(정전스캔, 자석 스캔)과 기계적 스캔을 조합하여 주입균일성을 얻는 주사방법. 예를들어, X방향의 스캔은 웨이퍼디스크를 고속회전시키는 기계적 스캔을 하고, 동시에 전기장이나 자기장을 이용한 이온빔을 Y방향으로 스캔시킨다.

반/디 용어집 이온 주입장치 웨이퍼처리공정
잔류입자수 - number of unremov - able particle

세정처리 후, 웨이퍼 표면 위에 잔류한 입자의 수.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 습식세정장치
체이스 유니트 - chase unit

성형금형에 있어서 캐비티블럭, 게이트블럭 및 러너블럭을 홀더베이스에 포함시킨 유니트.

반/디 용어집 패키지 조립공정
콘렌즈 - corn lens

광원에서부터 생기는 흑점을 제거하기 위해 설치하는 렌즈

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
전자사이클로트론공명 ECR - electron cyclotron resonance

하나의 자계 중에서 자계에 수직인 면의 속도성분만을 갖는 전자가 등속원운동(사이클로트론운동)을 하면서, 외부교번자계에 의한 에너지를 흡수하어 속도가 증가하는 현상. 일반적으로 주파수 2.45GHz의 마이크로파와 자장강도 87.5mT의 공명조건을 이용한다.

반/디 용어집 건식식각장치 웨이퍼처리공정

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

프란틀 수 - Prandtl number

탄성계수 - elastic modulus

공칭 응력 - nominal stress

유동박리 - flow separation

CFL수 - Courant - Friedrichs...

전자빔 노광장치 - electron beam exposure system

좌표반복성 - coordinate shot term repeatability

착탈기 - inserter remover

잔류오존 처리장치 - ozone gas processor ozone removal equipment

하이브리드 스캔 - hybrid scan

잔류입자수 - number of unremov - able particle

체이스 유니트 - chase unit

콘렌즈 - corn lens

전자사이클로트론공명 ECR - electron cyclotron resonance

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