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저항가열로 - resistance heating furnace

결정성장에 필요한 온도분포를 형성하기 위해 만들어진 저항가열체와 인화물로 구성된 반응로.

반/디 용어집 웨이퍼제공정 단결정제조
저속전자선회절법 - low energy electron diffraction method

5～500전자볼트(eV)정도의 동일한 에너지의 전자가 이용되며, 표면으로 산란될 때, 이 에너지를 잃지 않는 전자만을 선택적으로 가속, 형광판의 위의 회절상을 맺는 방법. 단결정의 원자구조를 연구하기 위한 기술.

반/디 용어집 물성검사장치 검사
EB측정 - electric beam line width measure - ment

전자선을 이용하여, 마스크 또는 웨이퍼 위에 미세한 패턴 수치단위를 측정하는 것.

반/디 용어집 검사장치 마스크제조공정
전압인가 전압측정 VSVM VFVM - voltage source voltage measure - ment

전압원보다 높은 저항을 달아 인가하여, 피측정디바이스에 스트레스를 주지 않는 콘택체크 측정법. 또는, 피측정디바이스에 전압을 인가하여, 피측정디바이스에 걸리는 전압원을 자기진단하는 것.

반/디 용어집 기본․공통 사공정
휠대 - wheel spindle stock

휠헤드 및 구동방치를 구비하고 있는 대.

반/디 용어집 기계가공 웨이퍼제공정
n형반도체 - n - type semiconductor

전자가 다수의 캐리어로 되는 반도체. 진성반도체(i형반도체)에 불순물로써 5가의 원자를 넣어주면(Si와 Ge반도체의 예를들면) 여분의 전자가 나와 전류가 흐른다.

반/디 용어집 특성용어 검사
프레임 스트라이프 - frame stripe

(1)라스터 스캔방식의 묘화장치에 라스터 주사폭과 같거나, 주사폭을 자연수로 나눈 값과 같은 폭을 가지는 띠 모양의 작은 영역. 칩은 이런 띠 모양의 작은 영역을 폭의 방향으로 틈새 없이 병렬로 배치한 것의 집합이다. 또, 이런 폭을 프레임폭이라 부른다. (2)레티클로 차광(遮光)하는 범위

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
플라즈마 식각장치 - plasma etching system

반응성 가스 플라즈마를 이용한 건식식각장치인데, 웨이퍼의 전위가 아주 높은 부유전위(floating voltage)여야 하는 식각장치. 주로 중성라디칼의 작용으로 식각이 진행된다.

반/디 용어집 건식식각장치 웨이퍼처리공정
확산저항법 SR - spreading resistance method

저항률ρ의 반도체 중에 점접촉하는 침 끝에서 전류가 넓게 확산되어 흐를 때 발생하는 전압강하는 I․Rs로 되고, 이 Rs를 확산저항이라고 한다. 전류는 침끝에서 반도체 중에 급속하게 확산되기 때문에, 전압강하는 대부분 침의 접촉면 근방에서 발생한다. 이 원리를 이용하여, Si 웨이퍼의 표면근방의 저항률을 측정하는 방법.

반/디 용어집 물성검사장치 검사

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

탄성계수 - elastic modulus

프란틀 수 - Prandtl number

공칭 응력 - nominal stress

유동박리 - flow separation

CFL수 - Courant - Friedrichs...

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n형반도체 - n - type semiconductor

프레임 스트라이프 - frame stripe

플라즈마 식각장치 - plasma etching system

확산저항법 SR - spreading resistance method

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