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초음파와이어본딩 - ultrasonic wire bonding

초음파와이어본더를 이용하여 본딩하는 방식으로 상온에서 실시된다.

반/디 용어집 조립공정 본딩
RCA세정 - RCA cleaning

1970년에 미국 RCA사가 개발한 다음과 같은 공정 및 조성으로 이루어진 Si 웨이퍼 세정법. (1) 암모니아 : 과산화수소 : 물의 용적배합비=1 : 1～2 : 5～7의 세정액(SC-1액 또는 Ammonia-Hydrogen Peroxide Mixture, 줄여서 APM액)으로, 75～85。C, 10～20분의 침적처리. 유기성 오염, 및 부착입자를 제거할 수 있다. (2) 불소산수용액(1 : 99의 희석액, Diluted Hydrofluoric acid 줄여서 DHF액)으로, 실온(室溫)에서 십 몇 초간의 침적처리. 실리콘산화피막을 제거할 수 있다. (3) 염산 : 과산화수소 : 물의 용적배합비=1 : 1～2 : 5～7의 세정액(SC-2액 또는 Hydrochloric acid-Hydrogen Peroxide Mixture, 줄여서 HPM액)으로, 75～85。C, 10～20분의 침적처리. 표면금속 불순물을 제거할 수 있다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 습식세정장치
중에너지 이온주입 장치 - medium energy ion implanter

이온에너지(1개 이온)의 최대값이 10keV를 초과하고, 250keV이하인 이온주입장치.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 도핑
청정세면기 클린수세기 - clean hand washer

청정실 안에서 사용되는 세면기. 수도에 손을 접촉하지 않고 조작할 수 있는 구조를 하고 있으며, 청정수가 사용된다.

반/디 용어집 청정실 설비․환경공정
테일길이 부정합 - tail length dispersion

웨지본딩에 있어서, 제1 본드부의 접합부에서 나와있는 와이어의 돌출길이의 부정합.

반/디 용어집 조립공정 본딩
휠축 - wheel spindle

휠을 설치하여 회전하는 축.

반/디 용어집 기계가공 웨이퍼제공정
촉매혼식산화처리장치 - catalyzed wet oxidation equipment

비교적 고농도의 유기폐수처리에 적합하고, 촉매를 충전한 반응탑으로, 고온고압하에서 유기물을 분해하는 장치. 촉매를 사용하기 때문에, 촉매를 사용하지 않는 습식산화장치에 비해 저압에서 처리할 수 있어 전력비를 낮출 수 있다.

반/디 용어집 초순수장치 설비․환경공정
활성타여과기 활성탄탑 - carbon filter activated carbon filter

입상활성탄을 충전한 여과기로, 수중의 유기물, 잔류염소와 과산화수소 등을 제거하기 위해 이용한다.

반/디 용어집 사공정 에싱
전처리장치 - pretreatment eguipment

일차순수처리에서 순수를 공급하기 전에, 미리, 물리적처리, 화학적처리에 의해, 원수(原水)중의 코로이드상 물질, 입자상 물질, 박테리아등을 제거하는 장치

반/디 용어집 사공정 에싱

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

프란틀 수 - Prandtl number

탄성계수 - elastic modulus

공칭 응력 - nominal stress

유동박리 - flow separation

CFL수 - Courant - Friedrichs...

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RCA세정 - RCA cleaning

중에너지 이온주입 장치 - medium energy ion implanter

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테일길이 부정합 - tail length dispersion

휠축 - wheel spindle

촉매혼식산화처리장치 - catalyzed wet oxidation equipment

활성타여과기 활성탄탑 - carbon filter activated carbon filter

전처리장치 - pretreatment eguipment

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