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저압CVD 장치 - low pressure CVD system

반응실 안이 저압(감압)상태로 유지되는 CVD장치. 웨이퍼 표면에서 균일하게 반응이 일어나고, 단차 피복성(step coverage)가 비교적 양호하다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 박막형성장치
전위측정 - potential measure - ment

피측정디바이스에서 방출된 수 eV의 낮은 운동에너지를 갖는 이차전자의 양을 전압으로 변환하여 측정하는 것.

반/디 용어집 사공정 디버그
DC 파라메터 검사장치 - DC parame - ter test program

반도체디바이스의 각종 DC 파라메터를 고정밀, 고분해능으로 측정하는 장치.

반/디 용어집 사공정 디버그
하프톤결함 회색결함 - halftone defect gray defect

패턴을 형성하는 차광막(크롬막)의 두께가 부분적으로 얇아지거나, 투명부분에 차광막이 생겨서 투과율이 저하되는 패턴결함.

반/디 용어집 결함검사장치 검사장치
휨제어장치 - bow control system

절단 중에 웨이퍼의 휨을 블레이드 제어, 잉곳 제어 등에 의해, 웨이퍼를 평탄화하거나, 부호를 첨가하여 소정의 휨 양으로 제어하는 장치.

반/디 용어집 기계가공 웨이퍼제공정
존 수 - zone count

다품종의 피측정디바이스를 서로 다른 테스트패턴에서 동시에 번인가능하도록 동일 항온조 안에서 전기적으로 구별된 영역의 수.

반/디 용어집 사공정 에싱
OD블레이드 외주도 - outer diameter blade

둥글고 얇은 판 바깥둘레 또는 전체에 다이아몬드를 포함한 연마입자를 고착 또는 연마입자를 채워 넣는 절삭공구. 외주도절단기에 사용된다.

반/디 용어집 기계가공 절단장치-하드기능
프레스 링 - press ring

ID 블레이드를 기계적으로 잡아당겨 올리기 위한 탑링에 내장된 링.

반/디 용어집 기계가공 절단장치-하드기능
CVD장치 - chemical vapor deposition system

박막재료를 구성하는 원소로 되어 있는 한 종류 또는 여러 종류의 화합물가스, 단체가스를 웨이퍼 위에 공급하고, 공기중이나 웨이퍼 표면에서 화학반응을 일으켜 원하는 박막을 형성하는 장치. 가스분자를 여기시키는 것은 일반적으로 열에너지와 플라즈마 방전을 이용하고 있다. 최근에는 광(레이저, 자외선 등)여기 CVD장치도 실용화단계에 있다.

반/디 용어집 CVD 장치 웨이퍼처리공정

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

탄성계수 - elastic modulus

프란틀 수 - Prandtl number

공칭 응력 - nominal stress

유동박리 - flow separation

CFL수 - Courant - Friedrichs...

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휨제어장치 - bow control system

존 수 - zone count

OD블레이드 외주도 - outer diameter blade

프레스 링 - press ring

CVD장치 - chemical vapor deposition system

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