회전축과 고정테의 간극에 필요한 압력을 가하여 유체를 보대고, 회전축을 중립부상시킨 회전축수(baring). 유체 대신 공기를 사용하면 공기축수(air baring).
반/디 용어집기계가공웨이퍼제공정
결정인상기능 - crystal lift mechanism
노체 위 부분에 있는 중공(中空)회전축을 끼우고 케이블을 둘러싸는 기구를 설치하여, 기구실 전체를 회전시켜 케이블에 회전을 전달하는 기구. 실리콘용 쵸크랄스키 장치에서는 축(shaft)방식에서 케이블 또는 베어링체인을 감는 방식으로 변했다.
반/디 용어집결정인상기능웨이퍼제공정
정전 척 - electrostatic chuck
시료대 위에 유전체층을 만들어, 시료대와 웨이퍼 사이에 전압을 걸어주어, 두 개 사이에 발생하는 쿨롱의 힘(정전기력)으로 흡착하는 척. 웨이퍼지지 및 온도제어를 위해 시료대, 반송장치등에 이용된다.
반/디 용어집기본․공통웨이퍼처리공정
애노드 - anode
전자총의 구성요소 중 하나로써, 캐소드에서 방사된 전자를 가속시키기 위한 전극. 보통, 애노드는 전자총 용기와 함께 접지되어 있어, 캐소드에는 수십 KV의 마이너스 가속 전압이 인가된다.
반/디 용어집노광․묘화장치마스크제조공정
캐소드 - cathode
전자총의 구성요소 중 하나로써, 전자를 방사하는 전극. 열전자방사용의 텅스텐 에어빔형 캐소드, LaB6 그리고 전계 또는 열전계방사용 캐소드 등이 있다.
반/디 용어집노광․묘화장치마스크제조공정
마스크블랭크, 블랭크마스크 - mask blank, blankmask
포토마스크 제조용 기판. 유리기판 위에 자외선 등의 빛을 차단하는 박막을 형성한 후, 레지스트를 도포시킨 것을 가리킨다. 차광막(遮光膜)으로 주로 크롬이 사용되며, 때로는 실리콘․몰리브덴실리사이드 등이 이용된다. 또, 단층 크롬막 이외에, 표면에 산화크롬막을 갖는 2층막, 크롬층을 산화크롬 사이에 삽입한 3층막도 자주 이용된다. 높은 광투과율, 낮은 열팽창율, 적은 결함, 높은 화학적․기계적 강도가 요구된다.
반/디 용어집기본․공통마스크제조공정
측정재현성 - measurement reproducibility
동일한 방법으로, 동일한 측정 대상을, 측정자․장치․측정장소․측정시기의 전부 또는 어느 하나가 달라진 조건 속에서 측정했을 경우, 각각의 측정값이 일치하는 성질 또는 정도(定度).
