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웨이퍼회전 오차 - wafer rotation error

노광할 때에 웨이퍼가 회전하면서 발생하는 정렬의 회전방향 오차.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
웨이퍼내 주입균일성 - dose uniformity

이온주입된 웨이퍼 표면의 불순물농도가 어느 정도 균일한가를 보여주는 지표. 이 평가방법으로, 보통 열처리한후 4탐침법(探針法)에 의해 웨이퍼 표면에 열 몇 개 점의 면저항률(시트저항)을 분석측정하여, 통계처리를 해 부정합을 구한다. 균일성=σ/ 는 측정시트저항값의 평균값에서 = / 단은 웨이퍼 시드저항값의 측정점의 개수,는 각측정점의 시드저항값. σ는 표준편차로 σ= C935

반/디 용어집 이온 주입장치 웨이퍼처리공정
이온마이크로프로브분석법 IM(M)A - ion micro probe(mass) analysis method

일차이온을 직경 1～2마이크로미터(㎛)의 점에 집중시켜, 이 일차이온으로 표면물질을 스퍼터이온화하여, 질량분석계로 분석하는 방법. 시료표면의 원소 혹은 동위체 분포는 일차이온빔의 동기조사와 오실로스코프를 이용하여, 확대상으로서 표시한다.

반/디 용어집 물성검사장치 검사
인시츄 in - situ - in - situ

종래에 서로 다른 공정으로 하던 처리공정들을 한 곳에서 단일공정으로 하는 것. in-situ 크리닝, in-situ 도핑, in-situ 모니터링 등으로 사용된다.

반/디 용어집 기본․공통 웨이퍼처리공정
오토캘리브레이션기능 - automatic calibration function

장치의 측정정밀도를 규격값 내로 자동교정하는 기능.

반/디 용어집 기본․공통 사공정
웨이퍼ID - wafer ID

웨이퍼 한 장의 인식을 위하여, 웨이퍼에 각인 또는 인쇄된 번호나 신호. 오리에테이션 플랫부에 붙어있는 경우가 많다. 각 장치에의 웨이퍼마다 데이터관리에 사용된다.

반/디 용어집 사공정 핸들링
인말샛

국제 해사위성 기구. 정지위성에 의한 선박용 해상이동통신서비스를 제공하기 위해 1979년에 발족한 정부간 국제기관. 출자자는 미국의 콤샛(COMSAT), 영국의 BT, 일본의 KDD 등이다. 약 2만대의 선박용 단말기뿐만 아니라 항공과 육상에서도 약 7000대의 단말기가 사용하고 있다.

통신 용어집
웨이퍼 스테이지 - wafer stage

웨이퍼를 노광위치로 이동시켜 위치를 결정하는 기구로써, XY평면내의 이동과 위치를 결정하는 XY스테퍼와, Z방향의 위치결정(focusing), Z축 주변의 회전위치결정(웨이퍼 θ) 및 X축과 Y축 주면의 회전위치결정(tilting)을 행하는 미동스테이지의 양스테이지를 포함하는 기구.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
웨이블그래프 웨이블플랏 - weibull graph weilbull plot

반도체디바이스의 초기고장, 우발고장. 마모고장 등을 평가하는 그래프. TDDB, 전자이동성(electromigration)평가 등에 이용된다.

반/디 용어집 사공정 에싱

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

탄성계수 - elastic modulus

프란틀 수 - Prandtl number

공칭 응력 - nominal stress

최대 전단응력(트레스카) 이론 - maximum...

CFL수 - Courant - Friedrichs...

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인말샛

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